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Posted in | Nanolithography

SEMATECH,應付關鍵字挑戰的 Inpria 合作夥伴在 EUV 石版印刷方面

Published on April 25, 2012 at 2:16 AM

卡梅倫柴

芯片製造者, SEMATECH 全球財團報告 Inpria,化工材料的專家優越性能氧化物薄膜證言的,適合 SEMATECH 的成員在大學抵抗材料和開發中心 (RMDC) 在阿爾巴尼的學院 Nanoscale 科學和工程 (CNSE)。

作為 SEMATECH 的石版印刷程序一部分, SEMATECH 和 Inpria 在關鍵字在極其紫外石版印刷方面將成為夥伴抵抗 (EUV)挑戰。 無機的 Inpria 的抵抗展示非常高銘刻阻力和解決了 11 個毫微米線路/空間功能。 在此合夥企業, SEMATECH 和 Inpria 將使用這些高分辨率為 0.5 NA EUV 想像光學的鑒定抵抗在持續的主要升級的核心提前抵抗 £ 11 毫微米半間距的研究在 RMDC。 Inpria 也將改進其抵抗材料的光敏滿足對即將發布的生產應用程序的生產率需要。

在 SEMATECH 和 Inpria 之間的合夥企業在 Inpria 的提前的半導體仿造的材料和進程和 SEMATECH 的馳名的將被建立市場領導、半導體經驗和研究專門技術和硬件廣遠的網絡。 RMDC 將提供對許多計量學工具和二個微型風險工具的存取被安裝在 CNSE 和加州大學,伯克利。

根據安德魯 Grenville, Inpria 的總執行官,這家公司能利用此協作加速 EUV 石版印刷材料的發展。 此合夥企業是另一份遺囑對論及主要石版印刷問題的公司的承諾遇到由半導體行業。

石版印刷的 SEMATECH 的斯蒂芬 Wurm 主任,闡明,此協作將加強 RMDC 的能力處理關鍵字抵抗在高級材料的挑戰和迅速地查找這些公用技術挑戰的適當的解決方法。

來源: http://www.sematech.org

Last Update: 25. April 2012 03:29

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