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Pedidos del Lugar de las Piezas de la Sociedad de la EMI de SEMATECH para Herramientas de los OBJETIVOS EUV de Carl Zeiss'

Published on April 27, 2012 at 2:19 AM

Por Cameron Chai

De acuerdo con sus asignaciones de la muesca, dos compañías de la pieza de la Sociedad de la EMI de SEMATECH que comprendía TSMC, Samsung Electronics, Intel y GLOBALFOUNDRIES han puesto órdenes para comprar la herramienta de los OBJETIVOS EUV, una solución antena actínica de la metrología de la imagen de la División de Sistemas de la Metrología del Semiconductor (SMS) de Carl Zeiss.

Carl Zeiss SMS ha combinado hacia arriba con departamento de la óptica del analizador de la Óptica, de Carl Zeiss SMT de la Litografía, y los socios externos en el revelado de la herramienta de los OBJETIVOS EUV. El Director de Gerente del SMS de Carl Zeiss, el Dr. Oliverio Kienzle declaró que estas órdenes son un punto de referencia en tierra importante en el adelanto de la herramienta de los OBJETIVOS EUV y acentúa la significación de la tecnología de EUV en la industria. La compañía anticipa órdenes de las compañías restantes de la pieza según sus asignaciones de la muesca firmadas durante el lanzamiento del consorcio de la EMI.

La herramienta de los OBJETIVOS EUV es una plataforma dominante para fabricar las máscaras sin defectos de EUVL para las 22 necesidades del nodo de la tecnología del mitad-tono del nanómetro, con capacidad de conversión a escala al nodo de la tecnología del mitad-tono de 16 nanómetro. Se prevee que el primer modelo producción-digno de la plataforma sea entregado en el Q3 de 2014.

En 2010, SEMATECH había fijado la EMI para desarrollar las herramientas dominantes de la metrología con el financiamiento para avance EUV en el campo de la producción de la máscara. La EMI es manejada por el Programa de la Litografía de SEMATECH, que se basa en la Universidad en la Universidad de Albany de la Ciencia y de la Ingeniería de Nanoscale.

SEMATECH inició el proyecto dominante de la EMI primera firmando un trato de la sociedad con Carl Zeiss para desarrollar y para fabricar el sistema antena actínico primero-de-su-bueno de la metrología EUV de la imagen para la producción en masa de EUVL.

Fuente: http://www.zeiss.com

Last Update: 27. April 2012 03:26

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