Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

SEMATECH EMI de Leden van het Vennootschap Plaatsen Orden Hulpmiddelen van de DOELSTELLINGEN EUV voor van Carl Zeiss de'

Published on April 27, 2012 at 2:19 AM

Door Cameron Chai

Overeenkomstig hun groeftaken, hebben twee lidbedrijven van het Vennootschap dat van SEMATECH EMI uit TSMC, Samsung Electronics, Intel en GLOBALFOUNDRIES bestaat orden geplaatst om het hulpmiddel van DOELSTELLINGEN EUV, een actinische luchtoplossing van de beeldmetrologie van de Afdeling van de Systemen van de Metrologie van de Halfgeleider van Carl Zeiss (SMS) te kopen.

Carl Zeiss SMS heeft met de Optica van de Lithografie, de afdeling van de de scanneroptica van Carl Zeiss SMT, en externe partners in de ontwikkeling van het hulpmiddel van DOELSTELLINGEN EUV samengewerkt. Leidende Directeur van Carl Zeiss SMS de', Dr. Oliver Kienzle verklaarde dat deze orden een belangrijk oriëntatiepunt in de vordering van het hulpmiddel van DOELSTELLINGEN EUV zijn en de betekenis van technologie EUV in de industrie benadrukken. Het bedrijf voorziet orden van de resterende lidbedrijven volgens hun groeftaken die tijdens de lancering van het EMI consortium worden ondertekend.

Het hulpmiddel van DOELSTELLINGEN EUV is een zeer belangrijk platform om maskers EUVL zonder gebreken voor de 22 NM van de helft-hoogte behoeften technologieknoop, met scalability aan de 16 NM helft-hoogte technologieknoop te vervaardigen. Het eerste productie-waardige model van het platform zou in Q3 van 2014 moeten worden geleverd.

In 2010, had SEMATECH opstelling EMI om zeer belangrijke metrologiehulpmiddelen door financiering te ontwikkelen om EUV op het gebied van de maskerproductie vooruit te gaan. EMI wordt beheerd door Het Programma van de sematech- Lithografie, dat bij de Universiteit bij de Universiteit van Albany van Wetenschap Nanoscale en Techniek gebaseerd is.

Het SEMATECH in werking gestelde EMI eerste zeer belangrijke project door een vennootschap te ondertekenen behandelt Carl Zeiss om het eerste-van-zijn-vriendelijke actinische luchtsysteem van de beeldmetrologie EUV voor massaproduktie van EUVL te ontwikkelen en te vervaardigen.

Bron: http://www.zeiss.com

Last Update: 27. April 2012 03:24

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit