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SEMATECH EMI 合伙企业成员卡尔的蔡司位置指令’争取 EUV 工具

Published on April 27, 2012 at 2:19 AM

卡梅伦柴

与他们的槽分配符合,包括台湾积体电路制造公司的 SEMATECH EMI 合伙企业的二家成员公司,三星电子、 Intel 和 GLOBALFOUNDRIES 发出订单采购目标 EUV 工具,从卡尔蔡司半导体计量学系统部的光化空中图象计量学 (SMS)解决方法。

卡尔蔡司 SMS 与石版印刷光学,卡尔蔡司 SMT 的扫描程序合作光学部门和外部合作伙伴目标 EUV 工具的发展的。 卡尔蔡司 SMS’总经理,奥利佛史东 Kienzle 博士阐明,这些顺序是在目标 EUV 工具的推进的一个主要地标并且强调 EUV 技术的意义在这个行业的。 这家公司根据在 EMI 财团的生成期间签字的他们的槽分配期望从剩余的成员公司的命令。

目标 EUV 工具是制造 22 毫微米半间距技术节点需要的无瑕疵的 EUVL 屏蔽的一个关键平台,与可缩放性对 16 毫微米半间距技术节点。 平台的第一个生产值得的设计在 Q3 预计被提供 2014年。

在 2010年, SEMATECH 设置 EMI 通过资助开发关键计量学工具为了提前在屏蔽生产域的 EUV。 EMI 由 SEMATECH 的石版印刷程序管理,在 Nanoscale 科学和工程阿尔巴尼的学院的大学根据。

SEMATECH 通过签署与卡尔蔡司的一个合伙企业交易开发和制造 EUVL 的大量生产的一流的光化空中图象计量学 EUV 系统启动了 EMI 的第一关键工程。

来源: http://www.zeiss.com

Last Update: 27. April 2012 03:24

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