Par Cameron Chai
Arradiance a indiqué que l'Office des Brevets des Etats-Unis a permis deux applications de brevet d'origine qui prétendent l'utilisation de la technologie de nanofilm, y compris les films atomiques de dépôt (ALD) de couche, comme composant résistif dans des dispositifs d'amplification de microcanal.
Ces deux brevets permis sont les plus défunts membres du portefeuille d'Arradiance des brevets entourant cette technique de production de la galette de microcanaux (MCP). La compagnie a un vaste portefeuille (IP) de propriété intellectuelle de MCP indépendant de substrat.
Les brevets neuf permis d'Arradiance se concentrent sur les nanofilms fonctionnels. Ces nanofilms conducteurs sont la technologie de activation pour les systèmes de dépistage énormes de zone et l'élément indispensable pour l'indépendance de substrat. De Façon Générale, la compagnie a 10 brevets dans ce domaine, dont le panneau de deux brevets nanofilm-a lancé la technologie de MCP pour les applications qui ont besoin des systèmes de dépistage de tube électronique comme ceux employés pour le dépistage d'événement et l'intensification d'image.
Selon David Beaulieu, le Directeur des Opérations d'Arradiance, les deux brevets récent permis sont les dernières pièces pour protéger la fabrication rentable de détecteur de MCP de la vaste zone de la compagnie. La combinaison du portefeuille de la compagnie des technologies brevetées et des plaques capillaires en verre d'alignement de vaste zone permet la production de masse des dispositifs détecteur-basés de MCP beaucoup à un plus peu coûteux. La dernière technologie de la fabrication de la compagnie permet aux dispositifs de MCP de haute performance d'être employés dans de nombreuses applications principales, y compris la garantie de patrie et les marchés médicaux qui peuvent influencer performance du dispositif de MCP de nanofilm la haute, à faible bruit et durable.
Le Président Directeur Général d'Arradiance, Ken Stenton a déclaré cela par ces brevets neuf permis, la compagnie revendique maintenant la propriété industrielle pour les couches émissives et résistives ALD-élevées d'électron de nanofilm pour des applications de MCP.
Source : http://www.arradiance.com/