ITME は Vistec の進められた電子ビーム石版印刷システムを購入します

Published on April 30, 2012 at 2:50 AM

カメロンシェ著

ワルシャワで基づいて電子材料技術 (ITME) の協会は SB251 の Vistec の電子ビームからの可変的な整形ビームシステム、電子ビーム石版印刷システムの提供者を買いました。

Vistec SB351 システム

Vistec SB251 は異なったタイプの diffractive およびマイクロ光学要素、新しい材料および光リトグラフィマスクの研究のためにそして製造利用されます。 ITME は光電子工学、マイクロメカニクスおよび電子工学の使用のための革新的な装置、材料およびコンポーネントの研究、開発および生産にかかわります。 協会はヨーロッパの提出プロシージャによってシステムを選びました。

ユニバーサルシステムは作るマスクのために開発され、直接露出を書いて下さい。 それは光学および半導体のアプリケーションで使用される透過および非透過材料を扱い、露出できます。 それに露出のプラットホームが 1 nm の 210x210 mm、アドレス格子、および 50 の kV の電子光学の段階旅行範囲を特色にすることをあります。 これらの機能を使うと、システムは 7" までマスクおよび 200 の mm のウエファー石版印刷をでコンポーネントからの異なった基板のより少しにより 50 nm 行うことができます。

高度の電子ビーム石版印刷システムの完全に自動化されたカセットにカセット基板の処理およびグラフィカルユーザーインタフェース機能はそれが ITME のような組織で多目的なマルチユーザーの環境で効果的に使用されることを可能にします。 さらに、それに ePLACE、データ準備のソフトウエアパッケージがあります。

Vistec の電子ビームの総務部長に従って、 ITME が現在と未来のアプリケーションを扱うことができるようにウォルフガング Dorl は、 SB251 多目的、信頼できま、システムを適したようにします。 、 ITME のディレクターは Zygmunt Luczynski 先生 ITME の研究開発の議題の大きな役割を担うと新しい Vistec SB251 が期待されることを示しました。

ソース: http://www.vistec-semi.com/

Last Update: 30. April 2012 03:54

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