NanoInk 宣佈高密度技巧列陣 Availabilty 聚合物筆石版印刷的

Published on May 1, 2012 at 12:59 PM

NanoInk 今天宣佈了高密度 (HD) 技巧列陣的可用性聚合物筆石版印刷的 (PPL)。 這些高密度彈性筆列陣對墨水材料的高處理量證言是理想的。 類似於與正常氮化硅筆的標準垂度筆 Nanolithography® (DPN®),高密度技巧列陣可以為分子的證言與控制功能大小的使用。

聚合物筆石版印刷的高密度技巧列陣

用於聚合物筆石版印刷的高密度技巧列陣可能容易地適應幾千位到百萬在同一個列陣的筆并且是可用的在列陣範圍的範圍 (從 5x5 到 25x25 mm2) 用不同的筆對筆間距 (從幾微米到數百微米間距)。 這些列陣的通用性在啟用應用的不同的類型細胞工程、藥物發現、染色體組的和材料學領域。

「當集成與第 2 個成水平的結構和 NLP 2000年系統的大範圍階段轉換, HD 技巧列陣成為為大規模的一個非常強大的工具,并且高處理量證言」,總經理說湯姆 Warwick, NanoInk 的極小製作系統部的。 「與 HD PPL 的技巧列陣版本,我們提高了我們的穩健可升級的極小製作課程,在 2011年按照 NLP 2000年系統的較早版本 2009年和 1 和第 2 成水平」。

NanoInk 構想了超平面的 HD 技巧列陣的可靠的製造的一個所有權技術,可以在客戶的應用程序要求附近自定義。 展示 HD PPL 的技巧列陣的功能最近錄影可以下面被查看。 對於查詢或更多信息關於 NanoInk 的 HD 技巧列陣課程和定製,請請與訪問 NanoInk.net 聯繫

Last Update: 1. May 2012 13:27

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit