Волей Soutter
Главная плавильня выбрала систему метрологии Nanometrics' и (IM) ПО NanoDiffract интегрированные ИМПОМ УЛЬС для оптически критической метрологии (OCD) размера для того чтобы раскрыть их для передн-конц--линии управления производственным процессом etch в объеме продукции предварительных продуктов 2x nm.
Этот выбор включает multi-систему следовать-на заказе который стоят, что на первая фаза поставок раскрывает разрешения Nanometrics IM в линии объема продукции 2x nm этой плавильни изощренной.
Главные компании etch квалифицировали и интегрировали систему ИМПА УЛЬС для OCD на их множественных платформах для применений соединения, контакта и транзистора. Кроме внедрений etch, Nanometrics предлагает другие конфигурации IM разрешений для OCD и применений тонкого фильма и для контролировать другие критические сказочные процессы как CVD, литографирование и CMP. Внедрение IM разрешений и других систем осмотра и метрологии Nanometrics на платформу Рыся помогает изготовлениям прибора отрегулировать сложные применения управления производственным процессом на недорогом владения.
Клиенты могут раскрыть интегрированную метрологию вместе с автоматизированными автономными системами, Сюитой NanoCD и Платформой Метрологии Группы Рыся, для того чтобы достигнуть всестороннего сказочный-широкого разрешения управления производственным процессом метрологии.
Директор Интегрированной Метрологии, Стив Брэдли Nanometrics' прокомментировал что компания вместе с провайдером платформы OEM etch и этот клиент плавильни продемонстрировали более лучшее управление производственным процессом для критических структур и слоев используя свои ПО NanoDiffract и интегрированную систему ИМПА УЛЬС OCD. Компания возбуждена о выборе своего всестороннего разрешения метрологии управления производственным процессом этим клиентом плавильни к продуктам продукции второе поколение 2x nm тома.
Продукции прибора Следующего поколени нужны более низкие критические отклонения в пределах-вафля, сери-к-серия, и вафл-к-вафля размера. Система ИМПА УЛЬС включает главное управление Компактных дисков отнесенных к выходу и представлению прибора конца.
Источник: http://www.nanometrics.com