Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Nanoanalysis | Nanobusiness

Главная Плавильня Выбирает Система ИМПА УЛЬС IM Nanometrics' и ПО NanoDiffract

Published on May 9, 2012 at 2:03 AM

Волей Soutter

Главная плавильня выбрала систему метрологии Nanometrics' и (IM) ПО NanoDiffract интегрированные ИМПОМ УЛЬС для оптически критической метрологии (OCD) размера для того чтобы раскрыть их для передн-конц--линии управления производственным процессом etch в объеме продукции предварительных продуктов 2x nm.

Этот выбор включает multi-систему следовать-на заказе который стоят, что на первая фаза поставок раскрывает разрешения Nanometrics IM в линии объема продукции 2x nm этой плавильни изощренной.

Главные компании etch квалифицировали и интегрировали систему ИМПА УЛЬС для OCD на их множественных платформах для применений соединения, контакта и транзистора. Кроме внедрений etch, Nanometrics предлагает другие конфигурации IM разрешений для OCD и применений тонкого фильма и для контролировать другие критические сказочные процессы как CVD, литографирование и CMP. Внедрение IM разрешений и других систем осмотра и метрологии Nanometrics на платформу Рыся помогает изготовлениям прибора отрегулировать сложные применения управления производственным процессом на недорогом владения.

Клиенты могут раскрыть интегрированную метрологию вместе с автоматизированными автономными системами, Сюитой NanoCD и Платформой Метрологии Группы Рыся, для того чтобы достигнуть всестороннего сказочный-широкого разрешения управления производственным процессом метрологии.

Директор Интегрированной Метрологии, Стив Брэдли Nanometrics' прокомментировал что компания вместе с провайдером платформы OEM etch и этот клиент плавильни продемонстрировали более лучшее управление производственным процессом для критических структур и слоев используя свои ПО NanoDiffract и интегрированную систему ИМПА УЛЬС OCD. Компания возбуждена о выборе своего всестороннего разрешения метрологии управления производственным процессом этим клиентом плавильни к продуктам продукции второе поколение 2x nm тома.

Продукции прибора Следующего поколени нужны более низкие критические отклонения в пределах-вафля, сери-к-серия, и вафл-к-вафля размера. Система ИМПА УЛЬС включает главное управление Компактных дисков отнесенных к выходу и представлению прибора конца.

Источник: http://www.nanometrics.com

Last Update: 9. May 2012 02:42

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit