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I Ricercatori di Fraunhofer Sviluppano le Componenti Chiavi per la Litografia di EUV

Published on May 11, 2012 at 2:41 AM

Da Cameron Chai

I Ricercatori a tre Istituti di Fraunhofer hanno inventato le componenti chiavi per la litografia di EUV.

Componenti chiavi Insieme sviluppate per litografia di EUV: Dott. Torsten Feigl, Dott. Stefan Braun e Dott. Klaus Bergmann (da sinistra a destra) con uno specchio del collettore. © Dirk Mahler/Fraunhofer

Il gruppo del Dott. Klaus Bergmann dall'Istituto di Fraunhofer per la Tecnologia Laser Ha sviluppato le sorgenti luminose, mentre il gruppo del Dott. Torsten Feigl dall'Istituto di Fraunhofer per l'Ottica Applicata e la Meccanica di Precisione ha sviluppato l'ottica del collettore e gruppo del Dott. Stefan Braun dall'Istituto di Fraunhofer per la Tecnologia del Raggio e del Materiale ha progettato l'ottica della proiezione e dell'illuminazione.

I 2012 Joseph-von-Fraunhofer prize riceveranno ai gruppi addetti a questa collaborazione strategica per i loro risultati notevoli. Il gruppo del Dott. Bergmann ha progettato i primi prototipi della sorgente di EUV nel 2006. Una versione beta già sta utilizzanda nelle applicazioni industriali per esporre i chip. Bergmann informato che la versione veloce e pulsata di energia elettricamente memorizzata è la base del concetto. Nel metodo, un laser è stato utilizzato per vaporizzare le tracce di stagno, che poi è stato agitato parecchie volte al secondo ad un'emissione a 13,5 nanometro facendo uso di un a corrente forte.

La qualità di uno specchio del collettore è il tasto per permettere che la radiazione colpisca esattamente la maschera dell'esposizione nel punto giusto. Il rivestimento assicura le perdite minime e la qualità superiore, radiazione messa a fuoco di EUV. Il Dott. Feigl ha specificato che la sfida affrontata dal gruppo era di progettare un sistema di rivestimento a più strati con la stabilità superiore di radiazione, la stabilità termica e la riflessione di EUV e di applicarlo sopra una superficie curva del collettore. Il sistema risultante è più di 660 uno specchio rivestito a più strati di millimetro-diametro EUV, che è tracciato come il più grande del suo genere nel mondo.

Gli specchi della Proiezione sono utilizzati per l'esposizione della radiazione che ha passato la maschera sui chip. Il gruppo del Dott. Braun ha sviluppato il livello ottimale del riflesso per gli specchi della proiezione. Accuratezza ottimale del livello di offerte di polverizzazione del Magnetron senza il bisogno di controllo di spessore in situ o dei trattamenti di lucidatura supplementari.

Il nuovo sistema della litografia di EUV è preveduto per cominciare la produzione commerciale nel 2015.

Sorgente: http://www.fraunhofer.de

Last Update: 11. May 2012 03:21

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