De Onderzoekers van Fraunhofer Ontwikkelen Zeer Belangrijke Componenten voor Lithografie EUV

Published on May 11, 2012 at 2:41 AM

Door Cameron Chai

De Onderzoekers bij drie Instituten Fraunhofer hebben zeer belangrijke componenten voor lithografie EUV bedacht.

Gezamenlijk ontwikkelde zeer belangrijke componenten voor lithografie EUV: Dr. Torsten Feigl, Dr. Stefan Braun en Dr. Klaus Bergmann (van links naar rechts) met een collectorspiegel. © Zeemansdolk Mahler/Fraunhofer

Dr. het team van Klaus Bergmann's van het Instituut Fraunhofer voor de Technologie van de Laser heeft lichtbronnen ontwikkeld, terwijl Dr. het team van Torsten Feigl's van het Instituut Fraunhofer voor de Toegepaste Optica en Techniek van de Precisie collectoroptica heeft ontwikkeld en Dr. het team van Stefan Braun's van het Instituut Fraunhofer voor de Technologie van het Materiaal en van de Straal verlichting en projectieoptica heeft ontworpen.

Een prijs Joseph-von-Fraunhofer van 2012 zal aan de teams worden toegekend betrokken bij deze strategische samenwerking voor hun opmerkelijke verwezenlijkingen. Team van Dr. Bergmann's ontwierp de EUV bron eerste prototypen in 2006. Een bètaversie wordt reeds in industriële toepassingen gebruikt om spaanders bloot te stellen. Bergmann informeerde dat de snelle, gepulseerde versie van elektrisch opgeslagen energie de basis van het concept is. In de methode, werd een laser gebruikt om een spoorhoeveelheid van tin te laten verdampen, die toen meerdere keren per seconde aan een emissie bij 13.5 NM gebruikend een hoge stroom werd geageerd.

De kwaliteit van een collectorspiegel is de sleutel om de straling toe te staan om het blootstellingsmasker in de juiste vlek nauwkeurig te raken. De deklaag verzekert minimale verliezen en superieure kwaliteit, geconcentreerde straling EUV. Dr. Feigl verklaarde dat de uitdaging die door het team onder ogen wordt gezien een multilayer deklaagsysteem met superieure stralingsstabiliteit, thermische stabiliteit en reflectiecoëfficiënt te ontwerpen EUV en het toe te passen over een gebogen collectoroppervlakte was. Het resulterende systeem is een meer dan 660 mm-dia multi-layer met een laag bedekte spiegel EUV, die als grootst van zijn soort in de wereld duidelijk is.

De spiegels van de Projectie worden gebruikt voor het blootstellen van de straling die het masker op de spaanders overging. Het team van Dr. heeft Braun's de optimale bezinningslaag voor de projectiespiegels ontwikkeld. Het sputteren van het Magnetron biedt optimale laagnauwkeurigheid zonder de behoefte aan diktecontrole in situ of extra het oppoetsen processen aan.

Het nieuwe EUV lithografiesysteem wordt voorzien om commerciële productie in 2015 te beginnen.

Bron: http://www.fraunhofer.de

Last Update: 11. May 2012 03:21

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit