Камероном Chai
Исследователя на 3 Институтах Fraunhofer изобрели ключевые компоненты для литографирования EUV.
Совместно начатые ключевые компоненты для литографирования EUV: Др. Torsten Feigl, Др. Stefan Braun и Др. Klaus Bergmann (от левого к праву) с зеркалом сборника. © Dirk Mahler/Fraunhofer
Команда Др. Klaus Bergmann от Института Fraunhofer для Лазерной Техники начинала источники света, пока команда Др. Torsten Feigl's от Института Fraunhofer для Прикладной Оптики и Точности Инджиниринга начинала оптику сборника и команда Др. Stefan Braun's от Института Fraunhofer для Технологии Материала и Луча конструировал оптику освещения и проекции.
2012 Иосиф-von-Fraunhofer приз будут награжены к командам, котор включили в это стратегическое сотрудничество для их замечательных достижений. Команда Др. Bergmann конструировала прототипы источника EUV первые в 2006. Бета версия уже используется в промышленных применениях для того чтобы подвергнуть действию обломоки. Bergmann информированное которого быстрый, пульсированный отпуск электрически скрытой энергии основа принципиальной схемы. В методе, лазер был использован для того чтобы испарить количество следа олова, которое после этого было агитировано несколько времен в секунду к излучению на 13,5 nm используя большой ток.
Качество зеркала сборника ключ для того чтобы позволить радиации ударить маску выдержки в правом пятне точно. Покрытие обеспечивает минимальные потери и главное качество, сфокусированную радиацию EUV. Др. Feigl заявил что возможность ая командой была конструировать разнослоистую систему покрытия с главной стабилностью радиации, термальной стабилностью и отражением EUV и приложить ее над изогнутой поверхностью сборника. Возникающая система больше чем 660 зеркало mm-dia разнослоистое покрынное EUV, которое маркировано как самый большой своего вида в мире.
Зеркала Проекции использованы для подвергать действию радиация которая прошла маску на обломоки. Команда Др. Braun начала оптимальный слой отражения для зеркал проекции. Точность слоя предложений sputtering Магнетрона оптимальная без потребности в-situ управления толщины или дополнительных полируя процессов.
Предвидится, что начинает новая система литографированием EUV освоенное производство в 2015.
Источник: http://www.fraunhofer.de