Fraunhofer Forskare Framkallar Nyckel- Delar för EUV-Lithography

Published on May 11, 2012 at 2:41 AM

Vid Cameron Chai

Forskare på tre Fraunhofer Institut har planerat nyckel- delar för EUV-lithography.

Gemensamt framkallade nyckel- delar för EUV-lithography: Dr. Torsten Feigl, Dr. Stefan Braun och Dr. Klaus Bergmann (från från vänster till höger) med en samlare avspeglar. © Dirk Mahler/Fraunhofer

Laget för Dr. Klaus Bergmanns från det Fraunhofer Institutet för Laser-Teknologi har framkallat ljusa källor, har har laget för stundDr. Torsten Feigls från det Fraunhofer Institutet för Applied Optik och att Iscensätta för Precision framkallat samlareoptik och laget för Dr. Stefan Brauns från det Fraunhofer Institutet för Materiellt och Strålar Teknologi planlagt belysning- och projektionsoptik.

En 2012 Joseph-von-Fraunhofer pris ska tilldelas till lagen som var involverade i detta strategiska samarbete för deras anmärkningsvärda prestationer. Laget för Dr. Bergmanns planlade EUV-källans första prototyper i 2006. En beta version redan ar använd i industriella applikationer till blottan gå i flisor. Bergmann informerade att fasta, den pulserade frigöraren av elektriskt lagrad energi är basen av begreppet. I metoden var en laser van vid avdunstar ett traceantal av tin, som agiterades därefter flera tider per understöder till ett utsläpp på 13,5 nm genom att använda en kickström.

En samlarespegel som är kvalitets-, är det nyckel- som låter utstrålningen slå exponeringen, maskerar i den högra fläcken exakt. Täcka ser till minsta förluster och överlägsen kvalitets- fokuserad EUV-utstrålning. Dr. Feigl påstod, att utmaningen som vändes mot av laget var att planlägga ett multilayer täcka system med överlägsen utstrålningsstabilitet, termisk stabilitet, och EUV-reflexionen och att applicera den över en krökt samlare ytbehandlar. Det resulterande systemet är mer, än 660 en mm-diameter mång--lagrar täckt EUV avspeglar, som markeras som det störst av dess sort i världen.

Projektion avspeglar används för exponering av utstrålningen som passerade maskera på gå i flisor. Laget för Dr. Brauns har framkallat optimalreflexionslagrar för projektionen avspeglar. Magnetronen som fräser exakthet för erbjudandeoptimallagrar utan behovet av i-situ tjocklek, kontrollerar, eller extra polering bearbetar.

Det nya EUV-lithographysystemet förutses för att börja reklamfilmproduktion i 2015.

Källa: http://www.fraunhofer.de

Last Update: 11. May 2012 03:23

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit