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Kumho Petroquímica Junta-se a SEMATECH Resiste o Centro na Faculdade da Ciência e da Engenharia de Nanoscale

Published on June 7, 2012 at 3:50 AM

Pela Vontade Soutter

o fabricante Coreia-Baseado de materiais do fotoresistente, Petroquímico de Kumho, transformou-se um membro de SEMATECH Resiste Materiais e Centro de Revelação (RMDC) situado na Universidade da Faculdade de Albany da Ciência e da Engenharia de Nanoscale.

SEMANTECH é um consórcio de fabricantes principais do semicondutor e dos materiais no mundo inteiro. Durante os últimos 25 anos, a organização foi instrumental em inovações baseadas pesquisa de transformação em soluções práticas permitir a fabricação. O trabalho feito por SEMATECH em alvos de RMDC para facilitar resiste fabricantes para desenvolver materiais para a aplicação no nó de 22 nanômetro. Este trabalho é complementado por programas de investigação financiados da universidade. O Centro igualmente tem capacidades da exposição para materiais ultravioletas (EUV) extremos. A inclusão da equipe de Kumho aceleraria a revelação de resiste e material de EUV para 22 capacidades do nanômetro.

A pesquisa em curso do Petroquímico de Kumho desde 1989 no campo do fotoresistente conduziu à Empresa que possui 65 das 106 patentes aplicadas para tecnologia avançada do fotoresistente em Coreia. Chang Kim mínimo, Vice-presidente Superior da Unidade de Negócios Química Eletrônica em Kumho falou sobre o trabalho da empresa neste campo ao longo da última década que começa com o fotoresistente de ArF e o aumento subseqüente no rendimento nos campos de produtos químicos e de semicondutor de FPD. Indicou que a colaboração de Kumho com o SEMATECH em seu programa da litografia de EUV era alinhado com o objetivo da empresa a estar na parte superior da indústria material eletrônica. Com a sociedade, Kumho terá o acesso às ferramentas da metrologia de RMDC e às ferramentas da micro-exposição (METs) independentemente da experiência do semicondutor de SEMATECH e da experiência da pesquisa.

Source: http://www.sematech.org

Last Update: 7. June 2012 04:52

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