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牛津儀器生成 PlasmaPro Estrelas100 硅銘刻工具

Published on June 19, 2012 at 12:19 PM

在等離子銘刻的領導先鋒和證言處理系統,牛津儀器等離子技術,贏取了其最近被生成的 PlasmaPro Estrelas100 深硅銘刻工具的指令,從按照嚴謹選擇過程的多倫多大學。

這個系統為大學的中央微型和 (ECTI)極小製作設備、服務的學術研究與開發需要,以及培訓的功能的湧現的通訊技術學院被採購了。

PlasmaPro Estrelas100 深刻的硅銘刻技術提供行業主導的處理性能,并且,開發想著 R&D 市場,這個系統提供最終在處理靈活性。 納諾和微結構可以認識到作為硬件設計了以這個能力運行 Bosch™和 cryo 銘刻技術在同一個房間。

從平穩的側壁進程到高銘刻費率洞銘刻, PlasmaPro Estrelas100 被設計保證大範圍 MEMS 應用可能達到,不用需要更換房間硬件。

備注 Yu 太陽, ECTI 的主任, 「為 MEMS 的此先進的工具和 NEMS 教授將使 ECTI 開展有效的學科研究。 創新的加拿大基礎 (CFI)資助了採購和委任各種各樣的重要工具包括 DRIE 和為中心的其他工具為在化學和生物的 Microfluidic 系統。 我們選擇了牛津在設備質量的儀器的 PlasmaPro Estrelas100、性能和功能,以及牛津儀器提供的非常好的系統支持」。

PlasmaPro Estrelas100 為與戰略夥伴的合作研究將使用,在關鍵研究領域,包括納米技術和極小製作、光子的材料和設備、微型和納諾機電系統 (M/NEMS),生物工藝學、微型和納諾電子設備、集成光學和光致電壓的設備。

「牛津儀器等離子技術繼續提供在 MEMS 市場上解決現有的和湧現的應用的技術」,評論標記 Vosloo,牛津儀器等離子技術銷售額 & 行銷經理, 「有一個清楚的進程和應用投資組合的,我們的技術啟用許多應用今天被識別的和那些明天。 在 20 年期間在 MEMS R&D 的經驗我們瞭解這個市場,并且處理我們的客戶的需要提供他們以可用最創新的工具」。

Last Update: 19. June 2012 13:18

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