Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
Posted in | Nanomaterials

Picosun-Produkteinführungs-Neue QuellAnlage für Extrem - niedrigen Dampf-Druck und Wärmeempfindliche ALD-Vorläufer

Published on June 20, 2012 at 8:40 PM

Picosun Oy, Finnland-Basiert, global funktionierender Hersteller von hochmodernen Atom- Schicht-Absetzungs (ALD)anlagen, hat seine neue erhitzte und aufgeladene Quelle Anlage Ruf-Picohot 300 gestartet.

Picohot 300 ist speziell für PICOSUN-P-Serien Produktionschuppe ALD Anlagen bestimmt worden. Es hat sehr große Fläche für Vorläuferverdampfung, können zwei rechnergesteuerte elektropneumatische Dreiwegeventile für die Pulsierung und es die maximale Temperatur von Temperaturgeregelten Rohren 300°C. erreichen beenden effiziente Verdampfung und Lieferung des Vorläufers. Das maximale Volumen des Vorläufers, das in die Quelle gefüllt werden kann, ist 300 ml, das erweiterte Operationszeiten des ALD-Hilfsmittels ohne den Bedarf, den Prozess für das Wieder füllen des Vorläuferquellschiffes zu stoppen sicherstellt.

Sehr gute Absetzungsergebnisse sind mit der Quellanlage Picohot 300 in den Stapelprozessen erzielt worden. Zum Beispiel denn Tantaloxid-Stapelprozess (mit ethoxide und Wasser des Tantals (i) als Vorläufern) InnerhalbWafer 1ó Ungleichmäßigkeit von 3.2% und Wafer-zuWafer 1ó Ungleichmäßigkeit von 3.9% sind erreicht worden.

„Effiziente Vorläuferliefersysteme sind für industrielle Prozesse der Qualität ALD des zuverlässigen, wiederholbaren, hohen Durchsatzes entscheidend. Es gibt einige ALD-Vorläufer, die sehr wärmeempfindliche und des Bedarfs Verdampfung bei als niedrige Temperaturen als mögliches, unerwünschte Nebenreaktionen wie Aufspaltung, Polymerisierung oder Kondensation zwischen den Vorläufermolekülen zu vermeiden sind. Picohot 300 wird konstruiert, um die Herausforderungen mit Vorläufern von extrem auszugleichen - niedrige Flüchtigkeits- und/oder Temperaturempfindlichkeit. Wir sind glücklich, das Produkt zu unseren Abnehmern im wichtigsten ALD-Ereignis des Jahres, die internationale ALD-Konferenz einzuführen, die im Augenblick im Inneren Europas verarbeitendeer Industrie IS, in Dresden, Deutschland,“ Zustände Juhana Kostamo, Direktor von Picosun stattfindet.

Über Picosun

Picosun Oy ist Finnischer, weltweiter funktionierender Hersteller von hochmodernen ALD-Anlagen und stellt Kontinuität zu fast vier Jahrzehnten des Vorangehens, exklusive ALD-Reaktorauslegung und die Herstellung dar. Picosuns globale Hauptsitze sind in Espoo, Finnland, seine Produktionsanlagen in Kirkkonummi, seine US Hauptsitze Finnlands, in Detroit, in Michigan und in seinen Asiatischen Hauptsitzen in Singapur. Heute sind Hilfsmittel PICOSUN ALD im Dauerbetrieb und IN R&D-Gebrauch in den zahlreichen Frontlinieindustrien und -Forschungsorganisationen über vier Kontinenten.

Last Update: 20. June 2012 21:25

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit