ULVAC 技术为涌现的固定存储器技术提供解决方法

Published on July 3, 2012 at 10:42 AM

ULVAC 技术证言和蚀刻设备为预测成功与非闪光的固定存储器技术提供制造解决方法。

最近市场趋势向显示商业化和近商业化的电路在速度、密度、功率 effciency 和 manufacturability 间被优选。 与非闪光的发展和成熟性作为一个价格合理,非易变,固体数据存储解决方法在移动技术时代帮助了带位者。

闪存,然而,没有配合与所有应用。 当闪光继续收缩 (几何节点) 它越来越少变得可靠。 在 2011年 4月,理论上的一刹那孔眼大小是 19nm。 在该点之外,闪光的稳定性变得高度可疑。 我们处理一刹那技术限额。

有被开发了的其他固定存储器技术,或者目前进行发展。 这些技术是: PCRAM、 ReRAM、 FERAM 和 MRAM。

ULVAC 提供制造器材的范围注意的所有的固定存储器解决方法以上。 前的 ENTRON™, ENTRON™ N300, Magest S200 和 ULHITE NE-7800H 为这些涌现的内存 trechnologies 的制造提供飞溅,铭刻和理想证言的解决方法。

关于这些产品的更多信息,请访问 ULVAC 网站

关于 ULVAC

建立在日本,在 1952年 ULVAC 是设计的一家国际公司,制造商并且销售设备和材料真空技术的行业应用的。 今天, ULVAC 是生产系统的一个主导的全球供应商、手段、泵和用于这个半导体的真空要素,平板显示器、盘/磁介质和行业制造市场。 这家公司参与真空行业的所有部分包括大约 36 家各自的公司。 ULVAC 名字从公司的概念性基础派生 - “最终在真空技术”。

从左到右: ULHITE NE-7800H 等离子蚀刻系统; ENTRON N300 蚀刻系统; ENTRON-EX 飞溅系统; Magest 200 多房间证言系统。 画象着作权: ULVAC 技术。

Last Update: 3. July 2012 16:17

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