ULVAC 技術為湧現的固定存儲器技術提供解決方法

Published on July 3, 2012 at 10:42 AM

ULVAC 技術證言和蝕刻設備為預測成功與非閃光的固定存儲器技術提供製造解決方法。

最近市場趨勢向顯示商業化和近商業化的電路在速度、密度、功率 effciency 和 manufacturability 間被優選。 與非閃光的發展和成熟性作為一個價格合理,非易變,固體數據存儲解決方法在移動技術時代幫助了帶位者。

閃存,然而,沒有配合與所有應用。 當閃光繼續收縮 (幾何節點) 它越來越少變得可靠。 在 2011年 4月,理論上的一刹那孔眼大小是 19nm。 在該點之外,閃光的穩定性變得高度可疑。 我們處理一刹那技術限額。

有被開發了的其他固定存儲器技術,或者目前進行發展。 這些技術是: PCRAM、 ReRAM、 FERAM 和 MRAM。

ULVAC 提供製造器材的範圍注意的所有的固定存儲器解決方法以上。 前的 ENTRON™, ENTRON™ N300, Magest S200 和 ULHITE NE-7800H 為這些湧現的內存 trechnologies 的製造提供飛濺,銘刻和理想證言的解決方法。

關於這些產品的更多信息,请請訪問 ULVAC 網站

關於 ULVAC

建立在日本,在 1952年 ULVAC 是設計的一家國際公司,製造商并且銷售設備和材料真空技術的行業應用的。 今天, ULVAC 是生產系統的一個主導的全球供應商、手段、泵和用於這個半導體的真空要素,平板顯示器、盤/磁介質和行業製造市場。 這家公司參與真空行業的所有部分包括大約 36 家各自的公司。 ULVAC 名字從公司的概念性基礎派生 - 「最終在真空技術」。

從左到右: ULHITE NE-7800H 等離子蝕刻系統; ENTRON N300 蝕刻系統; ENTRON-EX 飛濺系統; Magest 200 多房間證言系統。 畫像著作權: ULVAC 技術。

Last Update: 3. July 2012 16:17

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