仓促 - 为铭刻技术请确定您书 2012年

Published on July 4, 2012 at 7:51 PM

加利福尼亚理工学院的 Kavli (KNI) Nanoscience 学院,美国和牛津仪器非常喜欢与预订和兴趣在他们的联合研讨会上和讨论会题为铭刻技术 2012年,进行 7月 16 17日。

这个活动是开放的对从事在行业的所有那些人员和学术界与兴趣在最近进展上在研究与开发,加上将来的趋势在微 & 纳诺结构和设备的制造和应用。 一些个安排依然存在。

事宜包括:

  • 在深 RIE/MEMS 的预付款
  • OpSIS,单数位 Nanoscale 制造
  • 光学和电子探测
  • 硅 Nanowires 和新颖的铭刻技术
  • 金刚石蚀刻
  • ALD 的 Nanoscale 应用

从事由 Oskar Painter,应用物理学的教授的简介主任参谋和材料学和联合负责人、 Kavli Nanoscience 学院、加利福尼亚理工学院和牛津仪器总经理丹艾尔,那里将是从被邀请的客户报告人、高级 KNI 加利福尼亚理工学院和牛津仪器等离子技术专家的谈话。

从加利福尼亚理工学院的报告人包括 Andrei Faraon,应用物理学和材料学助理教授; Rassul Karabalin,高级研究科学家,在加利福尼亚理工学院的浓缩的问题物理; Sameer Walavalkar,物理的 Postoctoral 学者,加利福尼亚理工学院。 特邀报告人包括迪尔德丽 Olynick 博士,极小制作设备、劳伦斯伯克利国家实验室和迈克尔霍赫贝格,电教授和化学工程,特拉华大学。

作为等离子处理系统一个主导的制造商,牛津仪器有是高度有经验和合格的处理应用和技术小组,与许多岁月经验。 他们将提供在等离子的铭刻和的证言的多种方面的谈话处理,并且在日二运行指导会议,允许大量代表的时刻问问题。 在此之后将有 Kavli Nanoscience 学院的清洁的房间设备的浏览。

备注 Oskar Painter,联合负责人, Kavli Nanoscience 学院,加利福尼亚理工学院教授, “牛津仪器等离子技术和 KNI 打算推进在当前功能之外的科技目前进步水平在极小制作。 KNI 继续处理有战略意义的手段的积极的购买先进的极小制作功能的,包括是顺利地被安装和导致我们的研究员的巨大结果的一定数量的牛津仪器系统。 我们的多用户实验室和清洁的房间 nanostructure 综合、制造和描述特性的对用户从学术界,政府和行业是可用的”。

没有此活动的充电,但是预订是重要的: http://www.kni.caltech.edu/calendar/workshops/etch-tech-2012/index.html

Last Update: 4. July 2012 22:33

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