Posted in | Nanofabrication

Встреча Пользователя MOCVD Хозяина Veeco

Published on July 21, 2012 at 4:00 AM

Волей Soutter

Аппаратуры Veeco, провайдер разрешений технологического оборудования которые облегчают изготовление СИД, MEMS, силы и оптической электроники, хозяйничали встреча 2012 группы пользователя MOCVD Тайвани. Около 150 клиентов изготавливания СИД находились в посещаемости на конференции которое было проведено в Tainan в Тайвани и среди участников были некоторые из изготовлений СИД верхней части в Тайвани как FOREPI, Epistar, Huga Optotech, Происхождении Photonics (GPI), Оптической электронике Arima, Epileds. и Tekcore.

Встреча 2012 Группы Пользователя Veeco Тайвани

Др. Карл Li, Недостаток - Президент R&D на GPI, был одним из приглашенных дикторов на форуме и он прокомментировал что Встреча Пользователя Veeco большой случай. Он выразил его благодарность на возможности предложенной форумом для того чтобы сотрудничать с специалистами технологии на Veeco и взаимодействовать с другими создателями СИД. Тема Др. Li была «Тенденцией Обломоков СИД для Освещать.» Его речь покрыла главных водителей для коммерциализации вообще освещая, специфически СИД снижения себестоимости который понадеяно, что достиган улучшенной сильнотоковой технологией обломока СИД.

Тим Liu, Недостаток - Президент и Менеджер Страны для Большого Китая, Veeco, выразили удовольствие на возможности взаимодействовать с главными изготовлениями СИД в Тайвани. Он сказал что фокус форума находился на понимать возможности ые их клиентами в изготавливании и обеспечить рентабельные разрешения для того чтобы улучшить выход и урожайность. Для того чтобы повысить глобальное ровное принятие освещения СИД, Veeco недавно запустило новый ряд систем низложения химического пара металла (MOCVD) органических основанных на своей технологии TurboDisc (R).

Некоторые из других тем представленных на форуме включают «Управлять вниз с производительных расходов СИД при Продукты MOCVD TurboDisc» представленные Др. Jia Ли, Старшим Директором Маркетинга Veeco и Разделения Развития Биснеса и новой версией на «GaN на Изготавливании СИД Кремния» Др. Kenny Солнцем, Директором Центра Технологии Тайвани Veeco.

Источник: http://www.veeco.com/

Last Update: 21. July 2012 04:44

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit