FEI は Verios の新しい極度な高リゾリューション SEM をもたらします

Published on July 31, 2012 at 7:59 AM

意志 Soutter によって

FEI の企業および研究のためのイメージ投射および分析の解決の提供者は、 Verios XHR SEM の導入が付いている (SEM)高解像のスキャンの電子顕微鏡検査の市場の優勢を拡張しました。

Verios XHR の走査型電子顕微鏡

Verios は正確に洗練された半導体の生産および物質科学アプリケーションのビームに敏感な材料を測定する改善された対照および副ナノメーターの解像度を提供します。 それは FEI の証明された XHR SEM ラインの第二世代システムです。

従来の SEM は劣った実行 t 低い kV を示します。 一方では、 Verios システムは表面の細部、高度の光学のおかげでの方の驚くべき感度を提供します。 それはユーザーがサンプル純度を維持し、異なった作動条件の間で急速に切替え、 1 つそして 30 の kV 間の加速の電圧範囲で副ナノメーターの解像度を達成することを可能にします。

驚くべき高解像パフォーマンスの提供のほかに、 Verios は新しい検出の技術のベールを取ります。 洗練されたフィルタに掛ける能力および改良されたシグナルのコレクションの組合せはより多くの適用範囲が広く、ハイコントラストの生成しか提供しませんが、またいろいろサンプルの分析のために可能になります。 従って、新しいシステムは準備なしで非導電かビームに敏感な材料の大半の極めて正確な nanoscale の観察を可能にします。

従来の SEM のために非常に小さい構造エンジニアが半導体のプロセス制御実験室の主度量衡学装置としてビームに敏感な材料の測定を行うことを可能にすることによっておよび Verios がことを XHR SEM SEM の寿命を増加することを FEI の電子工学の事業体のための副大統領および総務部長として役立つルディ Kellner は示しました。 会社の IC3D のソフトウェアによって、 Verios は £ 22 nm の技術ノードで制御プロセスへ正確な測定を提供することができる強力なツールです。

TEM に変形しないで必要とされる高対照、高解像の画像または他の画像技術をことを Verios は科学者が記録することを可能にすること FEI の物質科学の事業体のための Trisha の米、副大統領および総務部長、コメントしました。

ソース: http://www.fei.com/

Last Update: 31. July 2012 09:16

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