FEI 引入新的 Verios 极其高分辨率 SEM

Published on July 31, 2012 at 7:59 AM

由意志 Soutter

FEI,想象和分析解决方法提供者行业和研究的,在高分辨率扫描电子显微镜术市场上扩大了其 (SEM)优势与 Verios XHR SEM 的简介。

Verios XHR 扫描电子显微镜

Verios 提供被改进的对比和子毫微米解决方法准确地评定在复杂的半导体生产和材料学应用的射线敏感的材料。 它是 FEI 的证明的 XHR SEM 线路第二代系统。

传统 SEM 展示低劣的性能 t 低 kV。 另一方面, Verios 系统提供往表面详细资料,由于的卓越的区分其先进的光学。 它使用户维护范例纯度,迅速地切换区别操作条件之间和达到子毫微米解决方法在 1 和 30 kV 之间的一个加速的电压范围。

除提供卓越的高分辨率性能以外, Verios 揭幕新的检测技术。 复杂的过滤的能力和改进的信号收藏的组合不仅提供更多灵活和更加大反差的生成,而且为对各种各样的范例的分析启用。 因此,新的系统允许大多数的极为准确的 nanoscale 观察绝缘或射线敏感的材料,不用任何准备。

鲁迪 Kellner,担当副总统和总经理 FEI 的电子营业单位的,阐明,为传统 SEM 是非常小的 Verios XHR SEM 增加寿命 SEM 当关键计量学设备在半导体程序控制的实验室通过使工程师进行在射线敏感的材料的评定和结构。 公司的 IC3D 软件, Verios 是能够提供准确评定给控制进程在 £ 22 毫微米技术节点的一个强大的工具。

Trisha 米、副总统和总经理 FEI 的材料学营业单位的,评论 Verios 使科学家记录大反差,高分辨率图象需要,无需变换对 TEM 或其他成象技术。

来源: http://www.fei.com/

Last Update: 31. July 2012 09:15

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