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FEI 引入新的 Verios 極其高分辨率 SEM

Published on July 31, 2012 at 7:59 AM

由意志 Soutter

FEI,想像和分析解決方法提供者行業和研究的,在高分辨率掃描電子顯微鏡術市場上擴大了其 (SEM)優勢與 Verios XHR SEM 的簡介。

Verios XHR 掃描電子顯微鏡

Verios 提供被改進的對比和子毫微米解決方法準確地評定在複雜的半導體生產和材料學應用的射線敏感的材料。 它是 FEI 的證明的 XHR SEM 線路第二代系統。

傳統 SEM 展示低劣的性能 t 低 kV。 另一方面, Verios 系統提供往表面詳細資料,由於的卓越的區分其先進的光學。 它使用戶維護範例純度,迅速地切換區別操作條件之間和達到子毫微米解決方法在 1 和 30 kV 之間的一個加速的電壓範圍。

除提供卓越的高分辨率性能以外, Verios 揭幕新的檢測技術。 複雜的過濾的能力和改進的信號收藏的組合不僅提供更多靈活和更加大反差的生成,而且為對各種各樣的範例的分析啟用。 因此,新的系統允許大多數的極為準確的 nanoscale 觀察绝緣或射線敏感的材料,不用任何準備。

魯迪 Kellner,擔當副總統和總經理 FEI 的電子營業單位的,闡明,為傳統 SEM 是非常小的 Verios XHR SEM 增加壽命 SEM 當關鍵計量學設備在半導體程序控制的實驗室通過使工程師進行在射線敏感的材料的評定和結構。 公司的 IC3D 軟件, Verios 是能够提供準確評定給控制進程在 £ 22 毫微米技術節點的一個強大的工具。

Trisha 米、副總統和總經理 FEI 的材料學營業單位的,評論 Verios 使科學家記錄大反差,高分辨率圖像需要,无需變換對 TEM 或其他成像技術。

來源: http://www.fei.com/

Last Update: 31. July 2012 09:15

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