Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Nanofabrication

Plasma Etch Inc. 版本新的自動化的等離子清潔系統

Published on August 8, 2012 at 5:41 AM

Plasma Etch, Inc. 發行了 PE25 jw。 它有 $6900 USD 的一個難以置信地低開始的價格。 用 PLC 控制裝備,這個系統來與一條唯一氣體通道,并且有一秒鐘的選項。 它充分地被自動化。 這個系統是最小的等離子銘刻,等離子擦淨劑公司線路,并且每次適用對等離子銘刻,公司名譽作為是耐久,可靠的和有一致,可重複的結果。

這個系統有自動處理排序功能。 所有定時活動 (pumpdown、等離子、氣體安定和出氣孔) 可以容易地被編程到自動序列。 PLC 鍵盤為運算符項使用,并且一份完全處理處方在內存裡可以是存儲可重複的結果的。 一按鈕運算開始這個處理順序。 在所有等離子銘刻系統,直接 RF 聯絡 (電容並行牌照) 為統一等離子生成使用。 這個部件有 125W 50KHz RF 供電以不斷地可變功率功能。 這個部件有一 2.5" x 4" 有 1.25的水平的 「直接聯繫」 RF 關閉的電極」房間高度結算。

PE25 jw 在美國製造的包括要素和從他們的卡森市, NV 總部被編譯并且被支持。 等離子銘刻有 30 年經驗在等離子技術。

Last Update: 8. August 2012 07:03

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit