解決在等離子的後期發展的每年研討會銘刻證言和增長

Published on August 9, 2012 at 8:51 PM

分子鑄造廠、 LBNL、美國 & 牛津儀器等離子技術宣佈再次將解決最新的研究和技術在等離子的他們的第 3 個每年研討會请銘刻證言和增長。

進行在 2012年 10月第 2 和 3日,此 1 個 ½ 日活動在有名望的勞倫斯伯克利國家實驗室,伯克利,加州,美國和包括介紹,討論和網絡連接午餐,著重最新的創新。

「我們主持這些成功的研討會全世界幾年,最近在上海、中國和加利福尼亞理工學院,美國和典型地吸引很大數量的參與者對每個活動」,說斯圖爾特米歇爾,牛津儀器美國公司的 VP 銷售額, 「這些討論會是學術和行業技術專家的一個妙極機會對網絡并且共享想法,并且我們高興有分子鑄造廠的此聯合討論會回來和協助解決」。

今年活動,除研討會談話之外,著重在證言,仿造和分析的基本電平控制,劃分成二個部分允許參與者受益於更小的組會議。 在星期二下午討論會和清潔的房間瀏覽進行 10月 2日。 這些實用的組會議將給這個參與者充足的機會問問題,并且 『请聽到它從專家』關於一個非正式的論壇。 討論會事宜將包括等離子銘刻、 ALD 和 Nanoanalysis 和由從分子鑄造廠和牛津儀器的專家實現。

在第二日 (星期三第 3) 研討會進行,與從關鍵國際研究所的報告人,討論他們的研究,并且他們包括: 埃爾溫 Kessels,技術大學艾恩德霍芬教授; 湯姆博士銳利,牛津儀器等離子技術; 弗蘭克 Greer,噴氣推進實驗室博士; Stacey 彎曲,斯坦福大學教授; 迪爾德麗 Olynick,分子鑄造廠, LBNL 博士; 多米尼克 Ziegler,分子鑄造廠 LBNL 博士; 亞歷克斯 Weber-Bargioni,分子鑄造廠, LBNL 博士; 弗蘭克 Ogletree,分子鑄造廠博士博士馬庫斯 Maier, Omicron、馬薩諸塞阿默斯特 Xiaodan 顧博士,大學和。

介紹事宜包括:

  • 下一代化工映射在 Nanoscale
  • 單數位 nanopatterning 的 ALD
  • 生物想像的被裝箱的 AFM 懸臂
  • 在 ALD 的控制證言: 從持續在能量轉換的影片到 nanoparticles 和應用
  • 在空間的 ALD
  • 納諾木鑽分析
  • 電池,核心殼 nanoparticles 和仿造的單層受控證言
  • 等離子 ALD 概覽
  • 嵌段共聚物石版印刷、蝕刻和分析由掠射角 X 射波衍射

「分子鑄造廠是能源部世界各地提供技術支持給研究員工作可能受益於或造成 nanoscience 的被資助的用戶設備。 通過對科技目前進步水平儀器,材料、專門技術和培訓的空前的存取,鑄造廠提供研究員以工具提高發展,并且對 nanoscale 材料的綜合、描述特性和原理的瞭解」,迪爾德麗 Olynick, LBNL 備注的人員科學家博士, 「此活動是補充的對進行同一個星期的分子鑄造廠用戶會議。 我們期待兩個活動的一個高出席者」。

因為安排是有限的,此研討會是免費,但是必須事先登記。 登記安排或獲得詳細信息,電子郵件: nancy.crouch@oxinst.com。 也參加分子鑄造廠用戶會議,请請登記這裡 http://foundry.lbl.gov/user2012/

Last Update: 9. August 2012 21:36

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