Los Instrumentos de Heidelberg Reciben la Pedido para el Sistema 2000 de la Litografía del Laser de DWL de Heptágono

Published on August 21, 2012 at 4:32 AM

Por G.P. Thomas

El Heptágono ha puesto una pedido para un sistema sofisticado 2000 de DWL con capacidad avanzada de la Exposición de la Escala Gris de los Instrumentos de Heidelberg, de un proyectista, del revelador y del fabricante de sistemas maskless de la litografía.

El Heptágono utilizará el sistema 2000 de DWL para producir los componentes ópticos micros para el uso en superordenadores, el equipo de telecomunicaciones, consolas del juego, dispositivos movibles, y teléfonos elegantes.

Jefe de los Instrumentos de Heidelberg el' de Ventas Globales y el Desarrollo de Negocios, Alexander Forozan declararon que la tecnología de la litografía de la Escala Gris es capaz de las superficies materiales complejas, al azar, y uniformemente o discontinuo contorneadas el crear para una miríada de aplicaciones en sistemas ópticos de alta tecnología. La litografía de la Escala Gris fue desplegada por la compañía en sus sistemas maskless de la litografía más que hace una década y a lo largo de los años la tecnología ha sido mejorada por la compañía para el uso en sus sistemas basados comerciales. Esta orden es un progreso importante para reforzar la dominación de la compañía en directo escribe la producción de sistema para el uso en Litografía de la Escala Gris.

el Heptágono Singapur-Basado diseña y produce soluciones puntas de las micro-ópticas. La compañía operatorio un centro de la investigación y desarrollo en Zurich, Suiza. Con áspero 20 años de experiencia en la óptica micra del nivel del fulminante, la compañía se especializa en la producción en grande de pequeños componentes ópticos para las aplicaciones avanzadas en superordenadores, el equipo de telecomunicaciones, consolas del juego, dispositivos movibles, y teléfonos elegantes.

Sistemas de los Instrumentos de Heidelberg los' son utilizados por algunas de los líderes del sector y de las universidades dominantes para la fabricación de la escritura directa y del photomask en los campos de las ópticas micras, pantallas de plasma, TFT, ASICS, nanotecnología, bioMEMS, MEMS y mucho más.

Fuente: http://www.himt.de

Last Update: 12. December 2013 23:21

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