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Technologie des Honneurs EUV d'EUV Litho avec « la Récompense En Suspens de Cotisation »

Published on September 13, 2012 at 3:54 AM

Par G.P. Thomas

Technologies honorées par Litho d'EUV EUV avec « la Récompense En Suspens de Cotisation » à l'Atelier International sur la Lithographie Ultra-violette (EUV) Extrême 2012 hébergée par EUV Litho.

La récompense a été présentée aux Technologies d'EUV pour ses exécutions technologiques et intellectuelles au cours des quinze dernières années vers le développement de l'infrastructure de lithographie d'EUV. Selon la Loi de Moore, le nombre moyen de transistors intégrés sur une puce doublera tous les 18 mois. L'évolution de la technologie des semiconducteurs en conformité avec l'avancement dicté par Loi de Moore est possible par l'avancement en lithographie d'EUV.

L'Atelier International sur la lithographie d'EUV est hébergé chaque année par EUV Litho basé hors d'Austin dans le Texas. L'objectif de l'atelier est de fournir un forum pour l'interaction entre les principaux lecteurs dans le domaine de la lithographie d'EUV. L'atelier De cette année a été conduit début juin dans Maui en Hawaï. La Technologie d'EUV est considérée l'amorce globale dans des outils de Métrologie d'EUV. La compagnie a été concevante et livrante les produits qui entourent presque toutes les phases concernées dans le procédé d'inspection pour la lithographie d'EUV. Les Abonnées des Technologies d'EUV sont les compagnies importantes de semi-conducteur en travers du monde tel que SEMATECH, Laboratoire National de Lawrence Livermore et IMEC. Ivan Pollentier d'IMEC a parlé au sujet des Technologies d'EUV à la cérémonie de Récompenses et a exprimé la satisfaction de sa compagnie designs d'EUV de Technologies les' qui sont une combinaison de la créativité et de penser logique. Il a également dit que l'outil s'est développé par les lignes de refoulage de compagnie également sur la facilité d'emploi. Rupert Perera, Président de Technologie d'EUV, a reçu la récompense.

Source : http://www.euvl.com/

Last Update: 12. December 2013 23:11

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