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Tecnologia di Onori EUV di EUV Litho con “il Premio Eccezionale di Contributo„

Published on September 13, 2012 at 3:54 AM

Da G.P. Thomas

Tecnologie onorate Litho di EUV EUV con “il Premio Eccezionale di Contributo„ al Workshop Internazionale su Litografia Ultravioletta (EUV) Estrema 2012 ospitata da EUV Litho.

Il premio è stato presentato alle Tecnologie di EUV per le sue realizzazioni tecnologiche ed intellettuali durante gli ultimi quindici anni verso lo sviluppo dell'infrastruttura della litografia di EUV. Secondo la Legge di Moore, il numero medio dei transistor integrati su un chip raddoppierà ogni 18 mesi. L'evoluzione di tecnologia dei semiconduttori in conformità con l'avanzamento dettato dalla Legge di Moore è possibile tramite l'avanzamento in litografia di EUV.

Il Workshop Internazionale sulla litografia di EUV è ospitato ogni anno da EUV Litho basato da Austin nel Texas. L'obiettivo del workshop è di fornire un forum per interazione fra i giocatori principali nel campo della litografia di EUV. Il workshop Di quest'anno è stato condotto all'inizio di giugno in Maui in Hawai. La Tecnologia di EUV è considerata come la guida globale in strumenti della Metrologia di EUV. La società è stata costruente e consegnante i prodotti che comprendono quasi tutti i punti in questione nel trattamento di ispezione per la litografia di EUV. I Clienti delle Tecnologie di EUV sono società importanti a semiconduttore attraverso il mondo quali SEMATECH, il Laboratorio Nazionale di Lawrence Livermore e IMEC. Ivan Pollentier da IMEC ha parlato delle Tecnologie di EUV alla cerimonia di Premi ed ha espresso l'apprezzamento della sua società progettazioni delle Tecnologie di EUV' che sono una combinazione di creatività e di pensiero logico. Egualmente ha detto che lo strumento si è sviluppato dai punteggi della società egualmente su cusabilià. Rupert Perera, il Presidente di Tecnologia di EUV, accettato il premio.

Sorgente: http://www.euvl.com/

Last Update: 12. December 2013 23:13

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