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「顕著な貢献賞」との EUV Litho の名誉 EUV の技術

Published on September 13, 2012 at 3:54 AM

G.P. 著トマス

EUV Litho によって催される極度な紫外石版印刷 2012 の国際研修会の 「顕著な貢献賞」 (EUV)との EUV Litho によって名誉を与えられる EUV の技術。

賞は EUV の石版印刷の下部組織の開発の方の最後の 15 年にわたる科学技術および知的な業積のための EUV の技術に示されました。 ムーアの法律に従って、チップで統合されたトランジスターの平均番号は 18 か月毎に倍増します。 ムーアの法律によって定まる進歩と一直線の半導体技術の改革は EUV の石版印刷の進歩によって可能です。

EUV の石版印刷の国際研修会はテキサスのオースティンから基づいて EUV Litho によって毎年催されます。 研修会の目的は EUV の石版印刷のフィールドの主力選手間の相互作用にフォーラムを提供することです。 今年の研修会はハワイのマウイの早い 6 月に行なわれました。 EUV の技術は EUV の度量衡学のツールの全体的なリーダーであると考慮されます。 会社はで EUV の石版印刷のための点検プロセスにかかわるほとんどすべてのステップを取囲む製品を設計し、渡します。 EUV の技術の顧客は SEMATECH、ローレンス Livermore の国立研究所および IMEC のような世界を渡る主要な半導体の会社です。 IMEC からのイヴァン Pollentier は受賞式で EUV の技術について話し、彼の会社の創造性および論理的な考えることの組合せである EUV の技術の感謝を」デザイン表現しました。 彼はまたツールが使いやすさの会社のスコアによってまた成長したと言いました。 、ルパート Perera は EUV の技術の大統領賞を受け入れました。

ソース: http://www.euvl.com/

Last Update: 12. December 2013 23:14

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