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Tecnologia das Honras EUV de EUV Litho com “Concessão Proeminente da Contribuição”

Published on September 13, 2012 at 3:54 AM

Por G.P. Thomas

Tecnologias honradas Litho de EUV EUV com “a Concessão Proeminente da Contribuição” na Sessão Internacional De Trabalho Sobre a Litografia Ultravioleta (EUV) Extrema 2012 hospedada por EUV Litho.

A concessão foi apresentada às Tecnologias de EUV para suas realizações tecnologicos e intelectuais durante os últimos quinze anos para a revelação da infra-estrutura da litografia de EUV. De acordo com a Lei de Moore, o número médio de transistor integrados em uma microplaqueta dobrará cada 18 meses. A evolução da tecnologia de semicondutor na linha do avanço ditado pela Lei de Moore é possível pelo avanço na litografia de EUV.

A Sessão Internacional De Trabalho Sobre a litografia de EUV é hospedada cada ano por EUV Litho baseado fora de Austin em Texas. O objetivo da oficina é fornecer um fórum para a interacção entre os jogadores principais no campo da litografia de EUV. A oficina dEste ano foi conduzida ao princípio de junho em Maui em Havaí. A Tecnologia de EUV é considerada ser o líder global em ferramentas da Metrologia de EUV. A empresa foi de planejamento e de fornecimento os produtos que abrangem quase todas as etapas envolvidas no processo da inspecção para a litografia de EUV. Os Clientes de Tecnologias de EUV são empresas principais do semicondutor através do mundo tal como SEMATECH, o Laboratório Nacional de Lawrence Livermore e o IMEC. Ivan Pollentier de IMEC falou sobre Tecnologias de EUV na cerimónia de Concessões e expressou a apreciação da sua empresa os projectos das Tecnologias de EUV' que são uma combinação de faculdade criadora e de pensamento lógico. Igualmente disse que a ferramenta se tornou pela empresa igualmente marca na facilidade de utilização. Rupert Perera, Presidente da Tecnologia de EUV, aceitou a concessão.

Source: http://www.euvl.com/

Last Update: 12. December 2013 23:19

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