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Tecnologia das Honras EUV de EUV Litho com “Concessão Proeminente da Contribuição”

Por G.P. Thomas

Tecnologias honradas Litho de EUV EUV com “a Concessão Proeminente da Contribuição” na Sessão Internacional De Trabalho Sobre a Litografia Ultravioleta (EUV) Extrema 2012 hospedada por EUV Litho.

A concessão foi apresentada às Tecnologias de EUV para suas realizações tecnologicos e intelectuais durante os últimos quinze anos para a revelação da infra-estrutura da litografia de EUV. De acordo com a Lei de Moore, o número médio de transistor integrados em uma microplaqueta dobrará cada 18 meses. A evolução da tecnologia de semicondutor na linha do avanço ditado pela Lei de Moore é possível pelo avanço na litografia de EUV.

A Sessão Internacional De Trabalho Sobre a litografia de EUV é hospedada cada ano por EUV Litho baseado fora de Austin em Texas. O objetivo da oficina é fornecer um fórum para a interacção entre os jogadores principais no campo da litografia de EUV. A oficina dEste ano foi conduzida ao princípio de junho em Maui em Havaí. A Tecnologia de EUV é considerada ser o líder global em ferramentas da Metrologia de EUV. A empresa foi de planejamento e de fornecimento os produtos que abrangem quase todas as etapas envolvidas no processo da inspecção para a litografia de EUV. Os Clientes de Tecnologias de EUV são empresas principais do semicondutor através do mundo tal como SEMATECH, o Laboratório Nacional de Lawrence Livermore e o IMEC. Ivan Pollentier de IMEC falou sobre Tecnologias de EUV na cerimónia de Concessões e expressou a apreciação da sua empresa os projectos das Tecnologias de EUV' que são uma combinação de faculdade criadora e de pensamento lógico. Igualmente disse que a ferramenta se tornou pela empresa igualmente marca na facilidade de utilização. Rupert Perera, Presidente da Tecnologia de EUV, aceitou a concessão.

Source: http://www.euvl.com/

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