Posted in | Nanolithography

Teknologi för Heder EUV för EUV Litho med ”den Utstående BidragUtmärkelsen”,

Published on September 13, 2012 at 3:54 AM

Vid G.P. Thomas

Hedrade EUV Teknologier för EUV Litho med ”den Utstående BidragUtmärkelsen” på LandskampSeminariet på Ultraviolett Lithography (EUV) 2012 som för Ytterlighet varas värd av EUV Litho.

Utmärkelsen framlades till EUV-Teknologier för dess teknologiska och intellektuella prestationer över de sist femton åren in mot utvecklingen av EUV-lithographyinfrastruktur. Enligt Moores Lag numrerar genomsnittet av transistorer som integreras på en gå i flisor som dubbelt ska varje 18 månader. Evolutionen av halvledareteknologi i överensstämmelse med befordran dikterings av Moores Lag är möjligheten vid befordran i EUV-lithography.

LandskampSeminariet på EUV-lithography varas värd varje år av EUV Litho som baseras ut ur Austin i Texas. Mål av seminariet är att ge ett fora för växelverkan mellan de ledande spelarna i sätta in av EUV-lithography. Detta års seminarium förades i tidig sort Juni i Maui i Hawaii. EUV-Teknologi är ansedd att vara den globala ledare i EUV-Metrology bearbetar. Företaget har varit iscensätta, och leverera produkter, som encompass nästan alla, kliver involverat i kontrollen som är processaa för EUV-lithography. Kunder av EUV-Teknologier är ha som huvudämne halvledareföretag över världen liksom SEMATECH, Lawrence Livermore MedborgareLaboratorium och IMEC. Ivan Pollentier från IMEC talade om EUV-Teknologier på Utmärkelseceremonin och uttryckte hans företags gillande av EUV-Teknologi' designer som är en kombination av kreativitet och logiskt tänkande. Han sade också att bearbeta framkallade vid företaget görar poäng också på userfriendliness. Rupert Perera, Presidenten av EUV-Teknologi, accepterade utmärkelsen.

Källa: http://www.euvl.com/

Last Update: 12. December 2013 23:22

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit