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Innovazione Principale nella Riduzione di Difetto degli Spazii In Bianco della Maschera di EUV con il Sistema di Veeco IBD

Published on September 15, 2012 at 7:59 AM

Da Cameron Chai

SEMATECH, un'associazione internazionale a semiconduttore che si adopera avanzare la fabbricazione del chip a semiconduttore con le attività di ricerca e sviluppo, recentemente riferita un'innovazione significativa nella riduzione di difetto dalla tecnica a più strati di deposito adottata per elaborare gli spazii in bianco della maschera che hanno applicazioni in litografia ultravioletta estrema (EUVL).

SEMATECH ha raggiunto la riduzione significativa di difetto impiegando il Sistema Basso del Deposito del Raggio Ionico di Densità di Difetto di NESSO (LDD IBD) messo a punto dagli Strumenti di Veeco.

Le maschere di EUV da costruzione utilizzando gli strumenti del deposito del raggio ionico. Un chip è progettato su un wafer a semiconduttore aggettando i reticoli del disgaggio di nanometro sulla maschera di EUV sul wafer a semiconduttore. Il trattamento necessita il controllo di difetto rigoroso per le maschere di EUV perché una maschera potrebbe essere usata durante la sua vita per modellare più di sei milione chip a semiconduttore. Le generazioni Correnti ed imminenti di dispositivi mobili impiegano i chip con le più piccole geometrie ed egualmente le richiedono di caratterizzare la prestazione e la potenza ad alto livello. Ciò è dove le maschere di EUV che comprendono la tecnologia avanzata entrano in maschera.

Due aspetti critici che governano la generazione di photomasks di tecnologia avanzata EUV per i singoli come pure trattamenti a più strati sono controllo completo sopra i beni ottici e livelli polverizzati molto bassi del deposito. I sistemi di IBD da Strumentazione di Veeco facilitano la produzione di tale pellicola di alta qualità per le maschere avanzate di EUV.

Goodwin, Gestore Franco del programma di Riduzione di Difetto dello Spazio In Bianco della Maschera a SEMATECH, ha specificato che la tecnologia di prima classe di IBD di Veeco era il media principale che ha permesso al deposito critico della pellicola caratterizzato dai livelli molto bassi di difetto e che aderisce ai 22 requisiti di difetto di trattamento di nanometro degli spazii in bianco della maschera di EUV.

Sorgente: http://www.veeco.com/

Last Update: 15. September 2012 08:34

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