Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Nanofabrication

Belangrijke Doorbraak in de Vermindering van het Tekort van de Spaties van het Masker EUV met het Systeem van Veeco IBD

Published on September 15, 2012 at 7:59 AM

Door Cameron Chai

SEMATECH, een internationale halfgeleidervereniging die poogt om halfgeleiderspaander productie door onderzoek en ontwikkelingsactiviteiten vooruit te gaan, meldde onlangs een significante doorbraak in tekortvermindering van de multi-layer goedgekeurde depositotechniek aan de spaties van het procesmasker die toepassingen in extreme ultraviolette lithografie hebben (EUVL).

SEMATECH bereikte de significante tekortvermindering door het Systeem aan te wenden Ionenstraal van de Dichtheid van het Tekort van de SAMENHANG Lage van het Deposito van de (LDD IBD) dat door Veeco Instruments wordt ontwikkeld.

De maskers EUV worden vervaardigd door de hulpmiddelen van het ionenstraaldeposito te gebruiken. Een spaander wordt ontworpen op een halfgeleiderwafeltje door de patronen van de nanometerschaal op het masker EUV op het halfgeleiderwafeltje te ontwerpen. Het proces vergt stringente tekortcontrole voor de maskers EUV omdat één masker tijdens zijn leven aan patroon meer dan zes miljoen halfgeleiderspaanders zou kunnen worden gebruikt. De Huidige en aanstaande generaties van mobiele apparaten wenden spaanders met kleinere meetkunde aan en vereisen hen ook om prestaties en macht op hoog niveau te kenmerken. Dit is waar EUV het opnemen van geavanceerde technologie komt in het beeld maskeert.

Twee kritieke aspecten die de generatie van geavanceerde technologie EUV photomasks voor enige evenals multilayer processen regeren zijn volledige controle over optische eigenschappen en zeer lage corpusculaire depositoniveaus. De systemen van IBD van Instrumentatie Veeco vergemakkelijken de productie van dergelijke hoogte - kwaliteitsfilm voor geavanceerde maskers EUV.

Frank Goodwin, Manager van programma van de Vermindering van het Tekort van het Masker het Lege bij SEMATECH, verklaarde dat technologie van IBD van Veeco de prima het belangrijkste middel was dat kritiek filmdeposito toeliet dat door zeer lage tekortniveaus wordt gekenmerkt, en dat aan de het tekorteisen van het 22 NMproces ten aanzien van EUV maskerspaties voldoet.

Bron: http://www.veeco.com/

Last Update: 15. September 2012 08:33

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit