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SK-hynix Tut sich mit SEMATCEH für EUVL-Masken-Infrastruktur-Entwicklung zusammen

Published on September 21, 2012 at 3:57 AM

Durch Willen Soutter

SK-hynix, ein globaler Lieferant von größtintegrierten Speicherbauelementen einschließlich Flash-Speicher-Chips und dynamische direkte Speicherchips (D-RAM), hat an der extremen ultravioletten Masken-Infrastrukturpartnerschaft der Lithographie (EUVL) (EMI) von SEMATECH teilgenommen, das am College von Nanoscale-Wissenschaft und von Technik (CNSE) basiert wird der Universität in Albanien.

SEMATECH ist der globale Verband von Herstellern von Halbleiterbauelementen und von Gerät. Die EMS wurde durch SEMATECH im Jahre 2010 gestartet, um die kritischen Infrastrukturabstände für EUV-Lithographie besonders im Reich von Maskenmetrologie zu füllen. Das Konsortium stellt die notwendige Finanzierung für Entwicklung von Metrologiehilfsmitteln zur verfügung, die für zu teuer gehalten werden, damit einzelne Firmen auf ihren Selbst sich entwickeln. Die Metrologiehilfsmittel sind für das Kennzeichnen und das Analysieren von den Defekten wesentlich, die in den Masken vorhanden sind, die für EUVL benötigt werden. Die EMS-Zusammenarbeit aktiviert die teilnehmenden Bauteile, kritische Daten zu teilen und entscheidende Analyse für das Entwickeln von geeigneten Metrologiehilfsmitteln durchzuführen.

SEMATECH gemeinsam mit Carl Zeiss geht mit der ersten aktinischen Luftanlage der bild (AIMS)metrologie EUV in der Industrie voran, die Massenproduktion von EUVL ermöglicht. Das Hilfsmittel ist für die Produktion von EUVL-Masken ohne Defekte wichtig. Das Hilfsmittel der ZIELE EUV wird konstruiert, um mit Knotenpunktanforderungen 16 nm kompatibel zu sein der halben Abstandtechnologie und kann auf Aufschlagszukünftige generationen von Halbleiterherstellungsknotenpunkten ausgedehnt werden. Die erste Version des Hilfsmittels, die für Produktion geeignet ist, wird eingeplant, bis Mitte 2014 beendet zu werden.

Sungjoo Hong, Senior-Vizepräsident und Leiter der R&D-Abteilung von SK-hynix, erklärte, dass seine Firma erwartet, eine wesentliche Rolle zu spielen, wenn sie die Kommerzialisierung von EUV-Technologie beschleunigt, indem sie seine Halterung in Richtung zum Gebäude von entscheidenden Metrologiehilfsmitteln ausdehnt.

Quelle: http://www.sematech.org/

Last Update: 21. September 2012 14:55

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