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El hynix de SK Partners con SEMATCEH para el Revelado de la Infraestructura de la Máscara de EUVL

Published on September 21, 2012 at 3:57 AM

Por la Voluntad Soutter

El hynix de SK, un surtidor global de los dispositivos de memoria incluyendo virutas de memoria Flash y los chips de memoria de acceso aleatorio dinámicos (Copitas), ha entrado en la sociedad ultravioleta extrema de la infraestructura de la máscara de la litografía (EUVL (EMI)) de SEMATECH basado en la Universidad de la Ciencia y de la Ingeniería (CNSE) de Nanoscale de la Universidad en Albany.

SEMATECH es la asociación global de fabricantes de dispositivos y de equipo de semiconductor. La EMI fue puesta en marcha por SEMATECH en 2010 para llenar los vacíos críticos de la infraestructura para la litografía de EUV determinado en el reino de la metrología de la máscara. El consorcio proporciona al financiamiento necesario para el revelado de las herramientas de la metrología que se juzgan demasiado costosas para que a las compañías individuales se conviertan en sus los propio. Las herramientas de la metrología son esenciales para determinar y analizar los defectos presentes en las máscaras requeridas para EUVL. La colaboración de la EMI permite a las piezas participantes compartir datos críticos y realizar el análisis crucial para desarrollar las herramientas convenientes de la metrología.

SEMATECH en colaboración con Carl Zeiss está promoviendo el primer sistema antena actínico de la metrología (AIMS) EUV de la imagen en la industria que facilitará la producción de volumen de EUVL. La herramienta es importante para la producción de máscaras de EUVL sin defectos. La herramienta de los OBJETIVOS EUV se diseña para ser compatible con requisitos del nodo de la media tecnología del tono de 16 nanómetro y se puede extender a las futuras generaciones del servicio de nodos de la fabricación del semiconductor. La primera versión de la herramienta conveniente para la producción se programa para ser terminada a mediados de 2014.

Sungjoo Hong, Vicepresidente y Jefe de la División del R&D de hynix de SK, declaró que su compañía prevee desempeñar un papel vital en apresurar la comercialización de la tecnología de EUV extendiendo su soporte hacia el edificio de las herramientas cruciales de la metrología.

Fuente: http://www.sematech.org/

Last Update: 21. September 2012 14:56

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