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Le hynix de la SK Partners avec SEMATCEH pour le Développement d'Infrastructure de Masque d'EUVL

Published on September 21, 2012 at 3:57 AM

Par Volonté Soutter

Le hynix de la SK, un fournisseur global des blocs de mémoires comprenant des puces de mémoire flash et des puces de mémoire vive dynamique (Drachmes), est entré dans le partenariat ultra-violet extrême d'infrastructure de masque de la lithographie (EUVL (EMI)) de SEMATECH basé à l'Université du Scientifique et Technique de Nanoscale (CNSE) de l'Université à Albany.

SEMATECH est l'association globale des constructeurs des dispositifs et du matériel de semi-conducteur. L'IEM a été lancé par SEMATECH en 2010 pour établir les liens critiques d'infrastructure pour la lithographie d'EUV en particulier dans le royaume de la métrologie de masque. Le consortium fournit le financement nécessaire pour le développement des outils de métrologie qui sont considérés trop chers pour que différentes compagnies se développent sur leurs propres moyens. Les outils de métrologie sont essentiels pour recenser et analyser des défauts actuels dans les masques exigés pour EUVL. La collaboration d'IEM permet aux membres participants de partager des données critiques et d'effectuer l'analyse essentielle pour développer les outils adaptés de métrologie.

SEMATECH en collaboration avec Carl Zeiss fraye un chemin le système aérien actinique tout premier de la métrologie (AIMS) EUV d'image dans l'industrie qui facilitera la production de masse d'EUVL. L'outil est important pour la production des masques d'EUVL sans des défauts. L'outil des OBJECTIFS EUV est conçu pour être compatible avec des conditions de noeud de demi technologie d'hauteur de son de 16 nanomètre et peut être étendu aux générations futures de service de noeuds de fabrication de semi-conducteur. La première version de l'outil adaptée pour la production est programmée pour être remplie d'ici mi-2014.

Sungjoo Hong, Vice-président Principal et Chef de la Division de R&D du hynix de la SK, déclarée que sa compagnie compte jouer un rôle indispensable en accélérant la commercialisation de la technologie d'EUV en étendant son support vers le bâtiment des outils essentiels de métrologie.

Source : http://www.sematech.org/

Last Update: 21. September 2012 14:55

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