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SK hynix 与 EUVL 屏蔽基础设施发展的 SEMATCEH 成为伙伴

Published on September 21, 2012 at 3:57 AM

由意志 Soutter

SK hynix、存储设备的全球供应商包括闪存筹码和动态随机存储器切削 (微量),加入 SEMATECH 极其紫外石版印刷 (EUVL) 屏蔽 (EMI)基础设施合伙企业根据在学院 Nanoscale 科学和工程 (CNSE) 大学在阿尔巴尼。

SEMATECH 是半导体设备和设备制造商的全球关联。 在 2010年 EMI 由 SEMATECH 展开缩小 EUV 石版印刷的重要基础设施差距特别地在屏蔽计量学域。 这个财团为的计量学工具发展视为太消耗大为了各自的公司能独自地开发提供必要的资助。 计量学工具为识别和分析缺陷是重要的当前在对于 EUVL 是必需的屏蔽。 EMI 协作使参与的成员共享重要数据和执行开发的适当的计量学工具关键的分析。

与卡尔蔡司合作的 SEMATECH 作早期工作在将实现 EUVL 的 (AIMS)批量生产的行业的第一个光化空中图象计量学 EUV 系统。 工具对 EUVL 屏蔽的生产是重要 sans 缺陷。 目标 EUV 工具被设计是与 16 毫微米半间距技术的节点需求兼容,并且可以被延伸服务半导体制造节点的下一代。 适用于生产预定工具的第一个版本在 2014年中完成。

Sungjoo 洪、 SK hynix R&D 分部的资深副总裁和负责人,阐明,他的公司在加速 EUV 技术的商品化期望扮演重要作用通过扩大其往关键的计量学工具大厦的技术支持。

来源: http://www.sematech.org/

Last Update: 21. September 2012 14:54

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