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SK hynix 與 EUVL 屏蔽基礎設施發展的 SEMATCEH 成為夥伴

Published on September 21, 2012 at 3:57 AM

由意志 Soutter

SK hynix、存儲設備的全球供應商包括閃存籌碼和動態隨機存儲器切削 (微量),加入 SEMATECH 極其紫外石版印刷 (EUVL) 屏蔽 (EMI)基礎設施合夥企業根據在學院 Nanoscale 科學和工程 (CNSE) 大學在阿爾巴尼。

SEMATECH 是半導體設備和設備製造商的全球關聯。 在 2010年 EMI 由 SEMATECH 展開縮小 EUV 石版印刷的重要基礎設施差距特別地在屏蔽計量學域。 這個財團為的計量學工具發展視為太消耗大為了各自的公司能獨自地開發提供必要的資助。 計量學工具為識別和分析缺陷是重要的當前在對於 EUVL 是必需的屏蔽。 EMI 協作使參與的成員共享重要數據和執行開發的適當的計量學工具關鍵的分析。

與卡爾蔡司合作的 SEMATECH 作早期工作在將實現 EUVL 的 (AIMS)批量生產的行業的第一個光化空中圖像計量學 EUV 系統。 工具對 EUVL 屏蔽的生產是重要 sans 缺陷。 目標 EUV 工具被設計是與 16 毫微米半間距技術的節點需求兼容,并且可以被延伸服務半導體製造節點的下一代。 適用於生產預定工具的第一個版本在 2014年中完成。

Sungjoo 洪、 SK hynix R&D 分部的資深副總裁和負責人,闡明,他的公司在加速 EUV 技術的商品化期望扮演重要作用通過擴大其往關鍵的計量學工具大廈的技術支持。

來源: http://www.sematech.org/

Last Update: 21. September 2012 14:54

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