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Posted in | Microscopy | Nanoanalysis

最小の欠陥と一致して育つエピタキシアル薄膜

Published on September 24, 2012 at 1:50 AM

G.P. 著トマス

オーク・リッジの国立研究所の調査チームは正常に最小の欠陥のエピタキシアル薄膜を育てました。 これらのフィルムは半導体の製造とナノテクノロジーアプリケーションで使用されます。 研究者はエネルギー関連材料、燃料電池および磁気センサーをよくするために導くかもしれない cobaltites の逃げやすい緊張の弛緩現象を検出しました。

強磁性 nano 領域の規則的な原子アレイの設計図は独創的な緊張の弛緩が原因で形作りました

発見がこと従来の概念を変更するかもしれないことを Ho チームを導いた実験室の材料の科学技術部エネルギー省の Nyung リーは含みます構造欠陥をエピタキシアル薄膜の形成の間に強制的に装備されている緊張を許可することを提案しました。 研究者は cobaltite および他のそのような材料がよく整理されていた原子パターンを、構造的に形作ったことを検出しました。 これらのパターンは磁気特性を修正でき、結晶の基板が付いている不適当な組み合わせを減らせましたまた。

エピタキシアル薄膜の作成は別のもの上の 1 つの材料の水晶層の成長を含みます。 このプロセスの間に、結晶の構造は互いに一直線に並ばなければなりません。 欠陥はフィルム成長のプロセス中に発生し、これらはひどく材料のパフォーマンスに影響を与えることができます。 難しさは最小限の欠陥のフィルムの成長にあります。 研究者はランタンの cobaltite の薄膜形式のしかしない結晶形の原子的に発注された格子構造を観察できました。

研究者は X 線、光学分光学を利用し、それが縞そっくりの格子パターンの生産に導いた独創的な緊張の弛緩動作を観察するスキャンの透過型電子顕微鏡。 これはそれが電池、センサー、表面の触媒およびイオンのコンダクターに使用するようにする磁気特性が付いている材料を作り出します。 見つけることは磁気を人工的に調整するために材料を使用する可能性を上げます。

調査はジャーナル Nano 文字で出版されました。

ソース: http://www.ornl.gov/

Last Update: 12. December 2013 23:14

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