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Nanopatterning 解決方法提供者收到多個版本記錄模塊的訂單

Published on September 25, 2012 at 6:22 AM

由意志 Soutter

分子版本記錄,高分辨率 nanopatterning 的系統提供者和解決方法,獲取從主要半導體設備公司的採購訂單為綜合化獲得多個版本記錄模塊到其步進系統。

這些模塊包括分子版本記錄』機構內部的噴氣機和閃光版本記錄石版印刷 (J-FIL) 技術,為複雜的半導體存儲器設備的大量生產提供必需的性能。

分子版本記錄』最新的 J-FIL 技術顯示了仿造與更好的重要維數均一 (1.2 毫微米 CDU, 3 斯格碼) 和線路邊緣坎坷 (<2 nm LER, 3 的 24 nm 斯格碼) 與可縮放性到使用一個唯一仿造的步驟進程的 10 毫微米。 所有權福利的 J-FIL 技術的內在費用 (CoO)通過複雜光學透鏡和鏡子,與使用超靈敏的光致抗蝕劑的想像的複雜的清除獲得的,并且功率限制了 EUV 光源,做它半導體存儲器設備的生產的理想。

根據 J-FIL 是進入最後生產階段準備的分子版本記錄』總裁兼首席執行官,標記 Melliar 史密斯,此多個模塊採購訂單反射客戶』秘密表決。 公司的內部小組在過去一該年與設備和商業屏蔽合作夥伴合作的發展活動和取得了重大的進展,特別是在整體咕咕聲和 defectivity 區。 這家公司期望下階段其 J-FIL 技術的商品化并且盼望實現半導體存儲器設備模式為將來。

來源: http://www.molecularimprints.com

Last Update: 25. September 2012 08:06

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