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Posted in | Nanoanalysis

Raggio Doppio FIB/SEM di FEI Versa 3D Ora Con la Sorgente Brevettata dell'Elettrone di UniColore

Published on September 26, 2012 at 5:46 AM

Società di FEI (NASDAQ: FEIC), una società principale di strumentazione che fornisce i sistemi di analisi e della rappresentazione per la ricerca e l'industria, oggi annunciati che ha aggiunto UniColore brevettato (UC) monochromated la sorgente dell'elettrone al suo sistema versatile di Versa 3D™ DualBeam™.

Sistema di Versa 3D™ DualBeam™ FIB/SEM da FEI.

La tecnologia del UC migliora l'abilità del DualBeam al dettaglio della superficie dell'ammenda di immagine alle tensioni acceleranti basse senza compromettere la sua prestazione analitica alle alte tensioni ed alle correnti del raggio.

“Versa 3D ora è il solo DualBeam per combinare la prestazione a bassa tensione della rappresentazione di una sorgente monochromated di FEG con la versatilità e la facilità di uso di un obiettivo di non immersione,„ Andre Mijiritskii, marketing di prodotto di Direttore indicato per SEM e DualBeams, Divisione di Affari di Scienza dei Materiali di FEI. “Di conseguenza, può fornire le immagini ad alta definizione del dettaglio di superficie fine sulla vasta gamma degli esemplari, compreso i materiali non conduttivi, magnetici e dell'luminoso elemento ed i grandi o campioni a forma di dispari. Lo stesso strumento può fornire le alte correnti e tensioni state necessarie per l'analisi veloce e precisa. La lente di non immersione esegue bene alle distanze di funzionamento più lunghe che sono particolarmente apprezzate per l'analisi e le procedure automatizzate, quali preparato la fetta e la ricostruzione 3D e del campione seriali di TEM.„

La sorgente del UC migliora drammaticamente la risoluzione della rappresentazione alle tensioni acceleranti basse facendo diminuire la diffusione di energia fra gli elettroni del raggio, che diminuisce l'aberrazione cromatica e permette il raggio di essere messa a fuoco in un più piccolo punto sulla superficie del campione. Dato un punto, una risoluzione di immagine e una sensibilità sufficiente piccoli affiorare dettaglio più ulteriormente sono migliorati alle tensioni basse del raggio tramite la riduzione dell'infiltrazione e dello scattering di raggio. La rappresentazione A Bassa Tensione può anche eliminare gli effetti di carico che interferiscono con la rappresentazione sui materiali non conduttivi.

Il Versa 3D DualBeam è destinato con una piattaforma alto-configurabile per permettere che i clienti adattino le capacità del sistema ai loro requisiti specifici. L'Alto vuoto, il vuoto basso e le opzioni ambientali di microscopia elettronica (ESEM) di scansione forniscono la copertura della vasta gamma dei tipi e delle applicazioni del campione.

Il Versa 3D DualBeam con la sorgente brevettata dell'elettrone monochromated UC ora è disponibile per ordinare. La prestazione di monocromatore del UC è egualmente disponibile sul Microscopio Elettronico Della Trasmissione del Titan™ di FEI, sul Microscopio Elettronico A Scansione Di alta risoluzione Estremo di Magellan™ e sul Helios NanoLab™ DualBeam™. Per più informazioni, visualizzi prego il sito Web di FEI.

Last Update: 26. September 2012 06:53

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