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Posted in | Nanoanalysis

特許を取られた UniColore の電子ソースの今 FEI Versa 3D の二重ビーム FIB/SEM

Published on September 26, 2012 at 5:46 AM

FEI の会社 (NASDAQ: FEIC)、特許を取られた UniColore を追加したことを今日発表された研究および企業にイメージ投射および解析システムを提供している一流の器械使用の会社は Versa (UC) 多目的な 3D™ DualBeam™システムに電子ソースを monochromated。

FEI からの Versa 3D™ DualBeam™ FIB/SEM システム。

UC の技術は低い加速の電圧で画像の罰金の表面の細部に高い電圧およびビーム流れで分析的なパフォーマンスを妥協しないで DualBeam の能力を改善します。

「今では Versa 3D 非液浸の対物レンズの多様性そして使い易さと monochromated FEG ソースの低電圧イメージ投射パフォーマンスを結合する唯一の DualBeam です」は、示されたアンドレ Mijiritskii SEM のためのディレクター製品マーケティングおよび DualBeams の FEI の物質科学の事業体。 「その結果、それは最も広い範囲の非導電の、磁気およびライト要素材料および大きくか異様な整形サンプルを含む標本で良い表面の細部の高解像の画像を、提供できます。 同じ器械は速く、精密な分析に必要とされる高い流れおよび電圧を提供できます。 非液浸レンズはシリアルスライスおよび 3D 復元および TEM のサンプルのような分析そして自動化されたプロシージャのために特に貴重、準備」。であるより長い作動距離でよく行います

UC ソースは低い加速の電圧でビーム電子間で広がる色収差を減らし、ビームがサンプル表面により小さい点に焦点を合わせるようにするエネルギーの減少によって劇的にイメージ投射解像度を改善します。 浮上する十分に小さい点、解像度および感度を与えられる細部更にビーム浸透および分散の減少によって低いビーム電圧で高められます。 低電圧イメージ投射はまた非導電材料のイメージ投射と干渉する充満効果を除去できます。

Versa 3D DualBeam は高設定可能なプラットホームによって顧客が特定の条件にシステム・ケイパビリティを適応させることを可能にするように設計されています。 高真空、低い真空および環境のスキャンの電子顕微鏡検査 (ESEM)オプションは最も広い範囲のサンプルタイプおよびアプリケーションの適用範囲を提供します。

特許を取られた UC monochromated 電子ソースの Versa 3D DualBeam は命令のために今使用できます。 UC のモノクロメーターパフォーマンスは FEI の Titan™伝達電子顕微鏡、 Magellan™の極度な高リゾリューションの走査型電子顕微鏡および Helios NanoLab™ DualBeam™でまた使用できます。 より多くの情報のために、 FEI のウェブサイトを訪問して下さい。

Last Update: 26. September 2012 06:53

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