Posted in | Nanoanalysis

與給予專利的 UniColore 電子來源的 FEI Versa 3D 雙電子束現在 FIB/SEM

Published on September 26, 2012 at 5:46 AM

FEI 公司 (那斯達克: FEIC),提供想像和分析系統的一家主導的手段公司為研究和行業,今天宣佈它添加了給予專利的 UniColore (UC) monochromated 電子來源對其多才多藝的 Versa 3D™ DualBeam™系統。

從 FEI 的 Versa 3D™ DualBeam™ FIB/SEM 系統。

UC 技術改進 DualBeam 的能力對圖像罰款表面詳細資料在低加速的電壓,无需減弱其分析性能在高電壓和射線當前。

「Versa 3D 現在是結合一個 monochromated FEG 來源的低壓想像性能的唯一的 DualBeam 與非浸沒物端透鏡的通用性和易用」,指明的安德烈 Mijiritskii,主任 SEM 的產品銷售和 DualBeams, FEI 材料學營業單位。 「結果,它在大範圍可能提供好表面詳細資料的高分辨率圖像標本,包括绝緣,磁性和輕要素材料和大或多的個形狀的範例。 同一臺儀器可能為快速,準確的分析提供需要的高當前和電壓。 非浸沒透鏡很好執行在為分析和自動化的程序是特別重要的,例如序列片式和 3D 重建和 TEM 範例準備的更長的工作距離」。

UC 來源巨大改進想像解決方法在低加速的電壓經過減少在射線電子中分佈的能源,減少色像差并且允許這條射線集中到一個更小的地點於範例表面。 給出充分地小的地點、分辨率和區分出現詳細資料進一步被提高在低射線電壓由射線滲透和分散的減少。 低壓想像可能也消滅干涉在绝緣的材料的想像的充電的作用。

Versa 3D DualBeam 設計以一個高可配置平臺允許客戶適應系統能力他們的特定需求。 高真空、低真空和環境掃描電子顯微鏡術 (ESEM)選項提供大範圍的覆蓋範圍範例類型和應用。

Versa 與給予專利的 UC monochromated 電子來源的 3D DualBeam 為預定現在是可用的。 UC 單色儀性能也是可用的在 FEI 的 Titan™傳輸電子顯微鏡、 Magellan™極其高分辨率掃描電子顯微鏡和 Helios NanoLab™ DualBeam™。 對於更多信息,请請訪問 FEI 網站

Last Update: 26. September 2012 06:52

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit