Posted in | Microscopy | Nanofabrication

La Nueva Técnica de la Microscopia Vigila y Controla Proceso de la Aguafuerte en Nanoscale

Published on September 29, 2012 at 7:51 AM

Por la Voluntad Soutter

Un equipo de investigación llevado por Profesores Gabriel Popescu y Lynford Goddard de la Universidad de Illinois ha desarrollado una técnica barata usando una clase especial de microscopio para grabar el ácido características delicadas en la superficie de semiconductores, mientras que simultáneamente vigila el todo el proceso en tiempo real con la resolución del nanoscale.

Ésta es una imagen tridimensional del logotipo de la Universidad de Illinois grabado el ácido en un semiconductor del arseniuro de galio, tomado durante la aguafuerte con una nueva técnica de la microscopia que vigile el proceso de la aguafuerte en la escala del nanómetro. La diferencia de la altura entre las regiones anaranjadas y púrpuras es aproximadamente 250 nanómetros. (foto de Chris Edwards, Emir Arbabi, Gabriel Popescu, y Lynford Goddard)

El microscopio utiliza dos haces luminosos a la imagen y talla la topografía con la precisión muy alta. Goddard informó que el concepto está basado en la posibilidad de medir la altura de la estructura cuando la luz consigue reflejada lejos de diversas superficies. El tipo del grabado de pistas puede ser determinado observando los cambios en altura, permitiendo a las personas vigilar el proceso de la aguafuerte. Esto, a su vez, permite a las personas determinar el tipo del grabado de pistas a través del espacio así como a través del tiempo en cada mancha en el fulminante de semiconductor que viene dentro del campo visual del microscopio.

Las técnicas Existentes de la microscopia el hacer un túnel de la exploración o de la microscopia atómica de la fuerza no son capaces de vigilar el proceso de la aguafuerte en su progreso. La nueva técnica es más rápida, menos ruidoso, barato, y es puramente óptica, que activa la supervisión del fulminante entero inmediatamente bastante que punta por la punta sin el tacto de la superficie del semiconductor.

Además de observar el proceso de la aguafuerte, la luz actúa como un catalizador para el proceso aparó la aguafuerte fotoquímica. Para crear características requeridas, las máscaras con los modelos únicos del gris son utilizadas para brillar la luz por grados, un proceso que sea que toma tiempo y costoso. Por la comparación, en la nueva técnica, una imagen del grayscale se brilla sobre la muestra bajo aguafuerte usando un proyector, así permitiendo que las personas formen modelos complejos fácilmente y rápidamente, así como los ajusta siempre que sea requerida simple cambiando el modelo del proyector.

Según los investigadores, este método muestra promesa en la supervisión en tiempo real del ensamblaje del uno mismo de los nanotubes del carbón o en la supervisión del desvío en la producción en grande de chips de ordenador. Puede facilitar los fabricantes de chips para bajar tiempo de procesamiento y costos contínuo asegurando la calibración de su equipo.

Fuente: http://www.illinois.edu

Last Update: 29. September 2012 08:57

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit