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新しい顕微鏡検査の技術は Nanoscale のエッチングプロセスを監察し、制御します

Published on September 29, 2012 at 7:51 AM

意志 Soutter によって

イリノイ大学から教授によってガブリエル Popescu および Lynford Goddard 導かれる調査チームは顕微鏡の特別な種類を使用して同時に全体のプロセスを監視している間 nanoscale の解像度のリアルタイムに半導体の表面の敏感な機能を開発しました、エッチングするために安価な技術を。

これはナノメーターのスケールのエッチングプロセスを監察する新しい顕微鏡検査の技術のエッチングの間に取られるガリウム砒素の半導体にエッチングされるロゴイリノイ大学の三次元画像です。 オレンジおよび紫色領域間の高さの相違はおよそ 250 ナノメーターです。 (クリス Edwards の首長 Arbabi、ガブリエル Popescu、および Lynford Goddard 著写真)

顕微鏡は画像に 2 つの光ビームを利用し、非常に高精度の地形を切り分けます。 Goddard はライトが異なった表面から反映されて得るとき概念が構造の高さを測定する可能性に基づいていること知らせました。 腐食のレートは高さの変更の観察によって定めることができまエッチングプロセスを監視することをチームが可能にします。 これは、それから、チームが顕微鏡の視野の内に来る半導体ウエハーのあらゆる点でスペースを渡る、また時間を渡る腐食のレートを定めることを可能にします。

スキャンのトンネルを掘る顕微鏡検査または原子力の顕微鏡検査の既存の技術は進行中のエッチングプロセスを監視することができません。 ポイントポイントよりもむしろ半導体の表面に触れないで全体のウエファーのモニタリングをすぐに可能にする新しい技術はより速く、より少なく騒々しく、安価、全く光学です。

エッチングプロセスの観察のほかに、ライトはプロセスのための触媒が光化学エッチングをダビングしたように機能します。 灰色の一義的なパターンと必須機能を、程度マスクが作成するためにはライト、時間のかかり、高いプロセスを照らすのに使用されています。 従って比較すると、新しい技術で、グレースケールの画像はプロジェクターを使用してエッチングの下のサンプルにプロジェクターパターンを単に変更することによって必要とされて時はいつでも調節します、複雑なパターンを容易そして急速に形作ることをチームを照らされ、またそれらを許可します。

研究者に従って、この方法はカーボン nanotubes の自己アセンブリの実時間監視またはコンピュータ・チップの大規模な生産のエラーモニタリングで約束を示します。 それは絶えず装置の口径測定を保障することによって処理時間および費用を下げるためにチップメーカーを促進するかもしれません。

ソース: http://www.illinois.edu

Last Update: 29. September 2012 08:56

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