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新的显微学技术监控并且控制在 Nanoscale 的蚀刻进程

Published on September 29, 2012 at 7:51 AM

由意志 Soutter

Lynford Goddard 教授导致的研究小组加百利 Popescu 和从伊利诺伊大学在与 nanoscale 解决方法时的实时开发耗费小的技术使用一特殊显微镜铭刻在半导体表面的精美功能,当同时监控整个过程。

这是伊利诺伊大学的一个三维图象徽标被铭刻到砷化镓半导体,被采取在与监控在毫微米等级的蚀刻进程的一个新的显微学技术的蚀刻期间。 橙色和紫色地区之间的高度区别是大约 250 毫微米。 (照片克里斯爱德华兹,贵族 Arbabi、加百利 Popescu 和 Lynford Goddard)

显微镜使用二个光束对图象并且雕刻与非常高精度的地势。 Goddard 通知这个概念在评定基础上结构的高度的可能性,当光从不同的表面时获释反射。 铭刻费率可以取决于观察在高度上的变化,使这个小组监控蚀刻进程。 这,反过来,使这个小组确定铭刻费率在空间间以及在时间间 在显微镜的视野内来临的半导体片的每个地点。

扫描挖洞显微学或基本强制显微学现有的技术不能够监控在其进展的蚀刻进程。 新的技术是更加快速的,较不喧闹,耗费小,并且纯粹地光学,立即启用整个薄酥饼监控而不是逐条地,无需涉及半导体表面。

除观察这个进程的一种催化剂叫了光化学蚀刻,蚀刻进程以外,光作为。 用灰色的唯一模式要创建必需的功能,程度用于屏蔽发光光,是费时和消耗大的进程。 使用放映机,比较起来,在新的技术,灰色极谱图象发光在蚀刻下的范例上,因而允许这个小组容易地和迅速地形成复杂模式,以及调整他们,每当要求通过更改放映机模式。

根据研究员,此方法显露才华在碳 nanotubes 自装配的实时监视或在计算机芯片的大规模的生产的错误监控。 它可能实现芯片制造商通过持续保证他们的设备的定标降低加工时间和费用。

来源: http://www.illinois.edu

Last Update: 29. September 2012 08:55

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