ATopTech Umfaßt Platz-und Weg-Lösung TSMCs 20 nm Bezugsim Fluss

Published on October 11, 2012 at 5:47 AM

TSMCS Verfahrenstechnik 20nm entbindet bessere Leistung und untere Leistungsaufnahme als vorherige Generationen. TSMC und ATopTech arbeiteten zusammen, wenn sie ATopTech-Hilfsmittel im Fluss des Bezugs20nm enthielten, um die zunehmenden Auslegungsherausforderungen für 20nm anzusprechen.

  • Doppelte kopierende Technologie (DPT)wegewahl-Regelhalterung
  • Farbe-Bewusste Wegewahl
  • Hierarchischer Auslegungsfluß für DPT-Wegewahl
  • Vt-Protokoll Breitenbefolgung
  • GDS-Spannungsmarkierung für den Abstand des Checks
  • TCD-/ICOVLeinfügung
  • Grenzzelleinfügung

„Wir haben nah mit TSMC gearbeitet, um Verbesserungen zu entwickeln, um das höchstmögliche routability für optimale Herstellung für Auslegungen 20nm sicherzustellen. Die Annahme TSMCs vom 20nm-BezugsFluss setzt unseren Auftrag fort, um Abnehmer mit Bestem in den Hilfsmitteln der körperlichen Auslegung der Klasse für hoch entwickelte Prozesse zu versehen.“

„Die nahe Zusammenarbeit zwischen ATopTech und TSMC hilft, erfolgreiche Projekte 20nm für unsere gemeinsamen Abnehmer zu aktivieren.“

Quelle: http://www.Atoptech.com

Last Update: 11. October 2012 06:23

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