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ATopTech Inclui a Solução do Lugar e da Rota no Fluxo da Referência dos 20 nanômetro do TSMC

Published on October 11, 2012 at 5:47 AM

ATopTech, líder nas soluções do projecto físico da próxima geração, anunciadas hoje que Aprisa™ e ApogeeTM, o lugar da empresa e a solução da rota, estão incluídos no Fluxo da Referência do 20nm de TSMC.

A tecnologia de processamento do 20nm de TSMC entrega o consumo do melhor desempenho e de uma mais baixa potência do que gerações precedentes. O TSMC e ATopTech colaboraram em incorporar ferramentas de ATopTech no Fluxo da Referência 20nm para endereçar os desafios crescentes do projecto para 20nm.

Muitas novas tecnologias foram desenvolvidas em Aprisa e em Apogeu para permitir sucessos do projecto do cliente em 20nm:

  • Apoio de modelação Dobro (DPT) da regra do roteamento da tecnologia
  • roteamento Cor-Ciente
  • Fluxo Hierárquico do projecto para o roteamento da DPT
  • conformidade da largura de Vt-Acta
  • Marcador da tensão de GDS para espaçar a verificação
  • Inserção de TCD/ICOVL

De “a tecnologia do P&R ATopTech architected especificamente para o projecto da tecnologia avançada,” disse Jue-Hsien Chern, CEO de ATopTech. “Nós trabalhamos pròxima com TSMC para desenvolver realces para assegurar o routability possível o mais alto para a fabricação óptima para os projectos 20nm. A adopção do Fluxo da Referência do 20nm do TSMC continua nossa missão a fornecer clientes o melhor em ferramentas de projecto físico da classe para processos avançados.”

“Nós somos satisfeitos incluir a ferramenta do Aprisa P&R de ATopTech no Fluxo da Referência do TSMC 20nm,” disse o Lee de Suk, Director Superior do TSMC, Divisão do Mercado da Infra-estrutura do Projecto. “A colaboração próxima entre ATopTech e TSMC ajudará a permitir os projectos 20nm bem sucedidos para nossos clientes comum.”

Source: http://www.Atoptech.com

Last Update: 11. October 2012 06:24

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