ATopTech 在台湾积体电路制造公司的 20 毫微米参考流包括安排和途径解决方法

Published on October 11, 2012 at 5:47 AM

ATopTech,在下一代物理设计解决方法的领导先锋,今天宣布 Aprisa™和 ApogeeTM、公司的位置和途径解决方法,在台湾积体电路制造公司的 20nm 参考流包括。

台湾积体电路制造公司的 20nm 加工技术比早先生成提供更好的性能和低功率冲减。 台湾积体电路制造公司和 ATopTech 在合并在 20nm 参考流的 ATopTech 工具解决 20nm 的增长的设计挑战合作。

许多新技术在 Aprisa 和远地点被开发启用客户设计成功在 20nm :

  • 双仿造的技术 (DPT)运输路线规律技术支持
  • 颜色意识运输路线
  • DPT 运输路线的分层结构设计流
  • Vt 分钟宽度标准
  • GDS 空间的检查电压标记
  • TCD/ICOVL 插入
  • 限定范围细胞插入

“ATopTech 的 P&R 技术为先进技术设计特别地 architected”, Jue-Hsien Chern, ATopTech 的 CEO 说。 “我们严密地与台湾积体电路制造公司一起使用开发改进保证最佳的制造的最高 routability 20nm 设计的。 从台湾积体电路制造公司的 20nm 参考流的采用继续我们的任务提供客户以在选件类物理设计工具的最好为先进的进程”。

“我们高兴地包括 ATopTech 的 Aprisa P&R 工具到台湾积体电路制造公司 20nm 参考流”,营销分部说 Suk 李,台湾积体电路制造公司高级主任,设计基础设施。 “在 ATopTech 和台湾积体电路制造公司之间的接近的协作将帮助启用我们的联合客户的成功的 20nm 项目”。

来源: http://www.Atoptech.com

Last Update: 11. October 2012 06:22

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