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Posted in | Nanomaterials

Chalmers 대학에 의해 선택되는 옥스포드 계기 FlexAL ALD 시스템

Published on October 16, 2012 at 6:30 AM

세계의 플라스마 식각과 공술서 시스템의 중요한 제조자의 옥스포드 계기, 한개는, 그들의 최신식 청정실에 있는 임명을 위한 FlexAL ALD 시스템을 공급하기 위하여 스웨덴에 있는 기술의 Chalmers 대학에 의해 선택되었다는 것을 알리는 만족됩니다.

옥스포드 계기 FlexAL 시스템은 먼 단 하나 ALD 시스템 내의 플라스마 ALD 프로세스를 제안해서 nanoscale 구조물과 장치의 기술설계에 있는 융통성 그리고 기능의 새로운 범위를 및 열 ALD 제공합니다.

원자 층 공술서는 (ALD) 확실한 "nano" 기술이어, 정확하게 통제되는 방법으로 예금되는 것을 약간 nanometres의 매우 얇은 필름이 허용하. ALD의 2개의 규정 특성은 - 원자 층 에 의하여 층 성장 및 높게 등각 코팅 각자 제한 - 반도체 기술설계, MEMS 및 그밖 나노 과학 응용에 있는 많은 이득을 제안합니다. FlexAL 시스템은 플라스마 ALD에 의해 가능하게 된과 선구자 낮 온도 프로세스 자료 선정에 있는 최대 유연성을 전달합니다; 먼 플라스마의 사용에 의해 유지되는 적은 피해; 그리고 조리법 몬 소프트웨어 인터페이스를 통해 지배할 수 있는, 반복 가능 프로세스.

박사 매트 Hagberg, Nanofabrication 실험실에 공정 장치 전문가, 스웨덴에 있는 기술의 Chalmers 대학은, "우리 보았습니다 우리의 나노 과학 연구에 있는 정확한 간격의 아주 얇은 밝힙니다, 고품질 필름을 위한 증가한 필요를. 우리의 가공 실험실에 원자 층 공술서 기능을 소개하는 것은 저희가 새로운 수준에 우리의 terahertz, 마이크로파 및 양 분대 연구를 취하도록 가능하게 할 것입니다. FlexAL는이었습니다 시장에 ALD 시스템 그 가장 어울렸던 우리의 기술 명세."

Chris Hodson, 옥스포드 계기에 ALD 생산 매니저는 "TheFlexAL ALD 공구 제안을 많은 새로운 응용 프로그램 지역으로 연구와 개발을 위한 이상적인 플래트홈 말하고, 각종 물자를 가공하고 기질의 광범위를 취급하는 융통성이 있습니다. 우리의 우수한 가공 응용은 팀을 만들 우리의 고객이 모든 점에서 지원되고 최대 가동 시간 및 신뢰도를 위한 그들의 옥스포드 계기 시스템에." 셀 수 있다는 것을 전역 서비스 지원은 확인합니다

Last Update: 16. October 2012 07:43

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