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Posted in | Nanomaterials

牛津儀器 Chalmers 大學選擇的 FlexAL ALD 系統

Published on October 16, 2012 at 6:30 AM

牛津儀器,其中一個等離子銘刻和證言系統世界的關鍵製造商,高興地宣佈它由 Chalmers 科技大學選擇在瑞典供應安裝的 FlexAL ALD 系統他們的科技目前進步水平清潔的房間的。

牛津儀器 FlexAL 系統通過提供遠程等離子 ALD 進程提供靈活性和功能的一個新的範圍在 nanoscale 結構和設備工程和熱量 ALD 在一個唯一 ALD 系統內。

基本層證言 (ALD)是真的 「納諾」技術,允許一些 nanometres 超薄的影片存款用一個精密地受控方式。 ALD 的二次本質特徵 - 自限制基本層由層增長和高度保形塗層 - 提供在半導體工程、 MEMS 和其他納米技術應用的許多福利。 FlexAL 系統提供在等離子和前體低溫進程啟用的材料選擇的最大的靈活性 ALD; 低的損害被維護使用遠程等離子; 并且可控制,可重複的進程通過處方主導的軟件界面。

博士蓆子 Hagberg,極小製作實驗室的處理設備專家, Chalmers 科技大學在瑞典說, 「我們看到了對非常準確的厚度稀薄,優質影片的增加的需要在我們的納米技術研究的。 引入對我們的處理實驗室的基本層證言功能使成為可能為了我們能採取我們的 terahertz、微波和數量要素研究對一個新的級別。 FlexAL 是在這個市場上的 ALD 系統該最搭配得不錯我們的技術規格」。

克里斯 Hodson, ALD 牛津儀器的產品管理器說 「TheFlexAL ALD 工具聘用研究與開發的理想的平臺到許多新建應用程序區域裡,并且有這種靈活性處理多種材料和處理各種各樣的基體。 我們非常好的處理應用合作,并且全球服務技術支持保證在他們的最大正常運行和可靠性的牛津儀器系統在各方面支持我們的客戶并且能計數」。

Last Update: 16. October 2012 07:40

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